| 研究課題/領域番号 |
26420772
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| 研究機関 | 一般財団法人ファインセラミックスセンター |
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研究代表者 |
永野 孝幸 一般財団法人ファインセラミックスセンター, その他部局等, 主任研究員 (70450848)
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| 研究分担者 |
佐藤 功二 一般財団法人ファインセラミックスセンター, その他部局等, その他 (20552590)
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| 研究期間 (年度) |
2014-04-01 – 2017-03-31
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| キーワード | シリカ / アモルファス / 水素 / 圧力 / CVD |
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| 研究実績の概要 |
対向拡散ＣＶＤ装置の原料側及び反応ガス側ラインに圧力計、流量調整バルブを取り付け、多孔質基材内外の圧力差を微調整することができるように改造を行った。この圧力制御機構により、成膜条件を精密に制御することが可能となった。一般的には水素ガス透過率と水素ガス選択透過性はトレードオフの関係にあるが、本機構により、水素透過率と水素選択透過性を同時に向上できることが判明した。
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| 現在までの達成度 (区分) |
現在までの達成度 (区分)
2: おおむね順調に進展している
理由
当初の予定どおり、対向拡散CVD装置の改造を行い、圧力制御を利用した成膜において、水素透過率と水素選択透過性を同時に向上させることが可能であることを見いだした。
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| 今後の研究の推進方策 |
CVD成膜前のメソポーラス中間層の構造最適化を行い、更なる特性向上を目指す。
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| 次年度使用額が生じた理由 |
3月末の納期が難しくなったため、次年度に繰り越すことにした。
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| 次年度使用額の使用計画 |
シリコン原料の調達に使用する。
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