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ガフクロミックEBT2（EBT2）における均一性向上の方法としてX線の二重曝射法がある．X線の代わりの紫外線照射量について検討した．波長375 nm の紫外線を用い，濃度変化から適正な照射時間について検討した．波長375 nmの紫外線を発生するLEDを用いEBT2に対して1, から30分の照射を行った．最適な紫外線照射時間を求めるための条件として，第一に画像を差分するので0の値が最頻値ではないこと，および最頻値の1/10値がヒストグラムの両袖と交差することとした．EBT2の場合2分の照射で170.86 mJ/cm2が照射され，1/10値は4.2でヒストグラムの両袖と交差していた．
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