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計算機合成ホログラムに特化し、レーザリソグラフィシステムを用いて計算で得られた干渉縞パターンをフォトマスク基板にダイレクト描画、現像＋クロム膜エッチングすることでバイナリーホログラムを得た。広視域、広視野角のために、ホログラムの拡大化、高精細化が望まれる。広視域化についてはホログラムのタイリングにより数ｍ幅の視域を確保できた。また、広視野角化について、ヒートモードリソグラフィの手法をもとに、フォトレジストに波長オーダーのパターンの描画を試みた。ピクセルピッチ800nmの干渉縞をもとに縮小描画手法を行い、最小320nmのピクセルピッチのホログラム作製を行い、最大80°を超える視野角を得た。
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