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DNA損傷の周辺のヒストンのアセチル化、リン酸化、メチル化など様々な化学修飾は、損傷領域でのクロマチン構造変換に加え、DNA損傷応答シグナル制御に関与していることが知られている。DNA修復が完了したあともこれらヒストンの化学修飾は、DNA損傷を受ける前の状態に戻るのか、あるいは修復はされてもかつて損傷があったことを示す目印としてそれら修飾が維持されているのかについて検討することが、本課題の目的である。
これまでにIL2-R/DRGFPカセット発現細胞をU2OS細胞で作成し、I-Sce1によるDNA二本鎖切断を行い、DNA修復が完了したことを示すGFP Positive細胞をマグネットビーズを付与したIR2-Rの抗体でsortingした。現在、sorting によって回収した細胞を用いてクロマチン免疫沈降によってDNA損傷が修復した領域でのヒストンの化学修飾の状態を検討している。その一方で、我々は、定量プロテオミクス解析によって放射線障害によって引き起こされるH2AXのアセチル化とリン酸化の度合いが、細胞ごとに異なることを見出しており、このことからDNA損傷が修復された領域でのヒストンの化学修飾の状態は多様であることが示唆される。またIL2-R/DRGFPカセットが挿入されている領域が、ヘテロクロマチン領域かあるいはユークロマチン領域かで得られる結果に違いが生じる可能性があるのでこの点に関しては幾つかのクローンで検討することも昨年より始めているが、この点については、クロマチン免疫沈降法でヘテロクロマチン蛋白質HP1の濃縮を見定めることにより解決しようと考えている。
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