| 研究課題/領域番号 |
26560218
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| 研究機関 | 首都大学東京 |
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研究代表者 |
藤江 裕道 首都大学東京, システムデザイン学部, 教授 (20199300)
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| 研究分担者 |
中楯 浩康 首都大学東京, システムデザイン学部, 助教 (10514987)
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| 研究期間 (年度) |
2014-04-01 – 2017-03-31
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| キーワード | バイオメカニクス / 間葉系幹細胞 / 組織再生工学 / ハルバッハ配列磁界 |
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| 研究実績の概要 |
永久磁石の配置として，立方体形状のネオジウム磁石８個を口の字状に配置した磁石配列を基本とした．この配列を一層あるいは層状に重ねて，先行研究の報告を参考にして，数100ミリ～数Tの磁束密度となるような磁場環境の設定に注力して研究を進めた．解析では，一層では0.6 T程度の磁束密度が，三層では0.86 T程度の磁束密度が，磁石配列の中心部分に発生することが確認された．３層以上では磁束密度の上昇はわずかであった．よって，総数は３層を最大とすることにした．また，磁場が培養細胞に与える影響を細胞の形態観察により行った．その結果，0.3 T程度の磁束密度下では間葉系幹細胞は影響を受けないが，0.6 T程度の磁束密度下では同幹細胞がわずかに伸展することが分かった．
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| 現在までの達成度 (区分) |
現在までの達成度 (区分)
2: おおむね順調に進展している
理由
球状ハルバッハ配列磁界の配置を取ることが現実的に困難であるため，環状ハルバッハ配列に注力して検討を進めた．発生する磁束密度に関しての解析および実験は順調に行われており，研究計画通りに進捗している．
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| 今後の研究の推進方策 |
研究開始時には1 T以上の磁束密度を生成することを目標にしていたが，その後の最新研究発表で，数10 mTの磁束密度環境が細胞分化に影響を及ぼす可能性が示唆されるようになった．そこで，生成する磁場環境の条件を広めに設定して，より広範な条件での検討をおこなうことが必要である．具体的には，数10～数100 mTの磁束密度では細胞分化への影響を，それ以上の磁束密度では細胞外基質生成への影響を調べる．
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| 次年度使用額が生じた理由 |
研究計画通りに進捗しているが，わずかながらの予算残を生じた．年度末に研究進行状況を見極め，年度内に使用する必要がないと判断されたため，本予算を次年度に回すことにした．この処置が研究遂行に影響を及ぼすことはないと考えられる．
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| 次年度使用額の使用計画 |
わすかではあるが予算を次年度に回し，物品購入や旅費等に回して，有効活用する計画である．
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