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2016 年度 研究成果報告書

環状・球状ハルバッハ配列磁界による幹細胞自己生成組織の線維配向化

研究課題

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研究課題/領域番号 26560218
研究種目

挑戦的萌芽研究

配分区分基金
研究分野 生体医工学・生体材料学
研究機関首都大学東京

研究代表者

藤江 裕道  首都大学東京, システムデザイン学部, 教授 (20199300)

研究期間 (年度) 2014-04-01 – 2017-03-31
キーワード間葉系幹細胞 / 静磁場 / ハルバッハ配列磁界 / 細胞接着
研究成果の概要

本研究では立方体状のネオジウム磁石9個を用いて,環状ハルバッハ配列と呼ばれる磁石配列・設置を行い,均一な強磁場環境下で細胞培養を行うシステムを構築した.そして,この磁場環境下で家兎滑膜由来の間葉系幹細胞(MSC)を培養し,磁場環境がMSCに与える影響を調査して,以下のことを明らかにした.1)磁束密度は0.674 Tであり,ほぼ均一であった.2)MSCを静磁場環境下で培養すると,接着面積は培養18日目までは大きくなる.3)MSCを静磁場環境下で25日間培養することで,細胞占有率は減少し,細胞密度は低下する.4)静磁場環境は,MSCの配向角度,アスペクト比には影響をおよぼさない.

自由記述の分野

バイオメカニクス

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公開日: 2018-03-22  

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