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2015 年度 研究成果報告書

太陽炉を用いた反応性超高温処理によるグラフェン形成法の研究

研究課題

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研究課題/領域番号 26600044
研究種目

挑戦的萌芽研究

配分区分基金
研究分野 ナノ材料工学
研究機関大阪大学

研究代表者

小林 慶裕  大阪大学, 工学(系)研究科(研究院), 教授 (30393739)

連携研究者 根岸 良太  大阪大学, 大学院工学研究科, 助教 (30381586)
篠田 佳彦  若狭湾エネルギー研究センター, 研究開発部, 研究員 (60421468)
研究期間 (年度) 2014-04-01 – 2016-03-31
キーワードグラフェン / 酸化グラフェン / 超高温プロセス / 構造修復 / 乱層構造 / 太陽炉
研究成果の概要

太陽炉を用いて得られる超高温(~1800℃)の反応性雰囲気で酸化グラフェンを処理し、化学剥離過程で生成する欠陥を修復することにより、高結晶性のグラフェンを形成する技術の開発を進めた。エタノール雰囲気で処理した酸化グラフェン薄膜から得られたラマンスペクトルで、Dバンド/Gバンド強度比として0.1、2Dバンド/Gバンド強度比として0.7が観測され、従来の不活性雰囲気と比べ著しく構造修復が進行することを明らかにした。さらに、2Dバンド形状の解析から、不活性雰囲気で進行するグラファイト化が抑制され、単層グラフェンに類似した物性が得られる乱層グラフェンが生成するという全く新奇な現象を見出した。

自由記述の分野

ナノ材料工学

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公開日: 2017-05-10  

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