研究課題
東北大多元研にて，一昨年度より評価を続けてきた多層膜ミラーの蒸着実験を行った．極紫外(XUV)用のSchwarzschild型集光ミラーでは，光学系を構成する多層膜凹凸面ミラー上の動径座標に依存して光線の入射角が変化する．このため，動作波長において高スループットを得るには，多層膜ミラーの周期長を入射角の変化に応じ制御し，ミラー全面でBragg反射をおこす必要がある(周期長分布制御)．これらを実現するため，ミラー基板が自転・公転運動を行うマグネトロンスパッタリング装置に適用可能な，多層膜ミラーの周期長分布制御機構を開発した．Schwarzschild対物ミラーに必要となる回転対称な周期長分布を得るため，ミラー基板は成膜装置内で自転及び公転運動を行う．また．スパッタターゲットと基板間には遮蔽板を配置した．制御機構は多元研技術室と共同で開発し，マグネトロンスパッタ装置(アネルバSPL-500)に組み込んだ．制御機構の評価のため、異なる周期長分布を持つMo/Si多層膜ミラーを作製した．基板の公転運動は，成膜装置の配置を基に解析的に速度関数V(θ)を求め，公転軸のモータを駆動することで制御した．成膜後X線小角散乱により周期長のミラー面内分布を計測した．分布制御をしない場合、周期長は2次関数的に変化し最外周で2.2%減少した．この結果を基に速度関数を決定し，面内均一な周期長分布，および曲面ミラーに必要な2次関数的分布の試料を作製した。開発した制御機構により、0.1%の厚さ精度で周期長を制御できることが明らかになった．結果，アト秒パルス集光に最適化されたミラー成膜を行う事に成功した．
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すべて 雑誌論文 (2件) (うち査読あり 2件、 オープンアクセス 1件、 謝辞記載あり 1件) 学会発表 (12件) (うち国際学会 7件、 招待講演 5件)
Proceedings of the 15th International Conference on X-Ray Lasers
巻: 印刷中 ページ: －
Optics Express
巻: 24 ページ: 13276-13287
10.1364/OE.24.013276
