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Ｘ線回折格子干渉計を発展させ、新たな光学素子の開発、さらには新規着想に基づく派生型光学系の開発により、高感度化の実現を目指した。光学素子については、金属ガラスインプリンティングにより、周期3μm格子の作製に成功した。また陽極酸化アルミナによる高アスペクト比鋳型作製法の開発も行った。Ｘ線エラストグラフィ法の開発では、解像できない急峻なエッジがどのように描出されるか、理論的・実験的に明らかにした上で、原理検証実験を行った。GISAXSイメージング法の開発においては、表面・界面に高感度な実験配置により、通常のＸ線イメージングでは描出が困難な10 nmの段差に起因するコントラストの取得に成功した。
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