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（走査）透過型電子顕微鏡に接続した電子エネルギー損失分光で得られる磁性信号を実材料で得ることを目的とした。厚さ50nm、大きさ100nm四方の、均一に極めて厚みが薄い広範な試料領域をこの計測は必要とするため、MgO基板上の強磁性薄膜においては、金属薄膜とMgOが強固に密着しており、粉砕／機械研磨／化学研磨では測定に耐える試料は準備できなかった。新規に導入されたイオンミリング装置により、より一般的な金属やセラミックスに関してTEM試料加工を行い、磁性信号が得られた。このことから、集束イオンビームと低加速イオンミリングを組合わせたMgO基板の薄片化による強磁性金属薄膜の試料加工が有望である。
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