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2015 年度 研究成果報告書

宇宙機への利用を目的とした金属/絶縁体相転移による自己熱放射率制御薄膜の作製

研究課題

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研究課題/領域番号 26630308
研究種目

挑戦的萌芽研究

配分区分基金
研究分野 無機材料・物性
研究機関東京工業大学

研究代表者

篠崎 和夫  東京工業大学, 理工学研究科, 教授 (00196388)

研究分担者 櫻井 修  東京工業大学, 理工学研究科, 准教授 (20108195)
塩田 忠  東京工業大学, 理工学研究科, 助教 (40343165)
連携研究者 脇谷 尚樹  静岡大学, 創造科学技術大学院, 教授 (40251623)
太刀川 純孝  (独)宇宙航空研究開発機構, 宇宙科学研究所, 主任研究員 (90470070)
研究期間 (年度) 2014-04-01 – 2016-03-31
キーワードスパッタリング法 / 金属絶縁体相転移 / 化学溶液堆積法 / 相転移温度 / 雰囲気熱処理 / 結晶構造 / 微構造観察 / 宇宙機
研究成果の概要

スパッタリング法およびCSD法を用いて、高熱伝導で大面積化が容易なSi基板上に外界温度によって熱放射特性が変化する(Lal-xSrx)Mn03(LSMO)を薄膜として形成し、LSMO中のMnの原子価制御により金属/絶縁体相転移温度、すなわち、薄膜の熱放射率を制御し、人工衛星用熱放射率可変素子(Smart Radiation Device)の製膜条件を検討した。スパッタリング法ではプラズマ出力を下げることで、目標温度に近い相転移温度を実現した。化学溶液堆積(CSD)法では,結晶化が最大となる製膜条件を得た。酸素分圧を制御した雰囲気中での熱処理により用途に応じて特性の異なる薄膜の合成を可能にした。

自由記述の分野

酸化物薄膜工学

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公開日: 2017-05-10  

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