| 研究課題/領域番号 |
26706027
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| 研究機関 | 大阪大学 |
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研究代表者 |
山本 洋揮 大阪大学, 産業科学研究所, 助教 (00516958)
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| 研究期間 (年度) |
2014-04-01 – 2017-03-31
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| キーワード | 量子ビーム / 半導体超微細化 / リソグラフィ / ナノ材料 |
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| 研究実績の概要 |
量子ビームによって誘起されるナノ空間内の反応を解明し、その反応機構に基づいて高感度・高解像度、低ラフネスを示す極限量子ビーム微細加工プロセスを創成することが本研究の目的である。そのために、10 nm以下のパターンを形成できる有機・無機ハイブリッドナノ粒子を合成し、その反応機構を解明することによって量子ビームから付与されるエネルギーを100%利用できる反応系を探し出す。
本年度は有機・無機ハイブリッドナノ粒子を電子線またはガンマ線を用いて合成を行い、有機・無機ハイブリッドナノ粒子を合成することに成功した。合成した有機・無機ハイブリッドナノ粒子を用いて、パターンが得られるかどうかをEUV露光装置を使って調べたところ、パターンが作製できることが明らかになった。
さらに、電子線露光装置を使ってもパターンを作製したところ、パターンが得られることが明らかになった。また、電子線露光装置と極端紫外光（EUV）露光装置で作製した有機・無機ハイブリッドナノ粒子の感度曲線をそれぞれ作製し、比較たところ、感度に違いが観察された。これは、電子線とEUVでは反応機構は同じであるが、エネルギー付与過程が異なるためであると考えられる。
、10 nm以下のパターンを形成できる有機・無機ハイブリッドナノ粒子を開発するために、合成した有機・無機ハイブリッドナノ粒子を水晶振動子マイクロバランス法（QCM法）および動画原子間力顕微鏡（動画AFM）を用いて現像過程の解析を行った。
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| 現在までの達成度 (区分) |
現在までの達成度 (区分)
2: おおむね順調に進展している
理由
高感度・高解像度、低ラフネスを示す極限量子ビーム微細加工プロセスを創成するために、電子線およびガンマ線を使って有機・無機ハイブリッドナノ粒子レジストを合成し、合成した有機・無機ハイブリッドナノ粒子レジストが電子線露光およびEUV露光装置でパターンが形成できることを明らかにできた。
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| 今後の研究の推進方策 |
合成した有機・無機ハイブリッドナノ粒子レジストが電子線露光およびEUV露光装置でパターンが形成できることが明らかになったので最適化した有機・無機ハイブリットナノ粒子レジストを試作し、EBやEUV露光で10 nm以下のパターン形成を試み、どこまでパターン形成可能であるかを確かめる。
同時に、電子線露光装置は照射時間がかかるためにArF露光装置を使っても同時にレジスト性能評価を行い、研究を加速させる。
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| 次年度使用額が生じた理由 |
購入予定の物品が購入できなくなったため。また、予定していた学会発表に参加できなくなったため。
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| 次年度使用額の使用計画 |
次年度使用額は物品費の購入、必要な薬品類、器具などの消耗品および学会発表のための国内外の旅費にあてる
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