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2017 年度 研究成果報告書

史上初の金属錯体二次元トポロジカル絶縁体に関する基礎研究

研究課題

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研究課題/領域番号 26708005
研究種目

若手研究(A)

配分区分一部基金
研究分野 無機化学
研究機関東京大学

研究代表者

坂本 良太  東京大学, 大学院理学系研究科(理学部), 助教 (80453843)

研究期間 (年度) 2014-04-01 – 2018-03-31
キーワードトポロジカル絶縁体 / ナノシート / 金属錯体
研究成果の概要

「トポロジカル絶縁体」(Topological Insulator, 以下TI) とは, 物質内部は絶縁体であるもののエッジ部分 (面や縁) はスピン偏極した金属性を示す「新奇な物質」である. その実在例が無機物に限定される状況で, 本研究では史上初となる含有機系二次元TIの実証を目指した. 具体的には, 筆者が2013年に発表したボトムアップ型「ジチオレン金属錯体ナノシート」 (J. Am. Chem. Soc. 2013, 135, 2462) を中心とした, 種々の金属錯体ナノシートに関する追究を行った.

自由記述の分野

ナノ科学

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公開日: 2019-03-29  

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