エピタキシャル薄膜による異方性ナノコンポジット磁石の形成に関する研究

2015 年度 研究成果報告書

• 研究課題/領域番号: 26820117
• 研究種目: 若手研究(B)
• 配分区分: 基金
• 研究分野: 電子・電気材料工学
• 研究機関: 工学院大学 (2015); 中央大学 (2014)
• 研究代表者: 大竹 充 工学院大学, 工学部, 助教 (60611415)
• 研究期間 (年度): 2014-04-01 – 2016-03-31
• キーワード: ナノコンポジット磁石 / 永久磁石 / 薄膜 / 結晶工学 / エピタキシャル成長

研究成果の概要

(a) 磁化容易軸が面内に向いたエピタキシャルSmCo5/Fe-Co多層膜の形成技術、および、(b) RT5型規則合金（R：希土類金属、T：遷移金属）のRをGd、Y、そしてTをCoとしたGdCo5、YCo5合金、および、RをSmそしてTをNiとしたSmNi5合金の形成技術開発を行い、ナノコンポジット磁石構造対応の多層エピタキシャル磁性膜の形成基礎技術を構築した。

自由記述の分野

工学