本研究では、頭蓋顔面領域における先天奇形の一つである口蓋裂の発生メカニズムの解明を目的とし、二次口蓋癒合中のMEE細胞消失過程をライブイメージング蛍光顕微鏡を用いて、リアルタイムで観察した。結果、二次口蓋の癒合部に存在する上皮細胞が硬口蓋から軟口蓋前方にかけて失われ、さらにそれらの上皮細胞がダイナミックに移動し、他の部位の口蓋上皮と比較して、鼻腔側と口腔側の両方向に移動することが観察された。二次口蓋の癒合過程におけるMEE細胞の消失には、これらの細胞移動が関与し、重要な役割を果たすことが示唆された。
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