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フッ化水素酸と過酸化水素混合溶液に多結晶シリコン基板を浸漬させ、その表面に白金触媒を接触させることで、シリコン基板表面に白金触媒の形状を転写し、太陽電池にとって重要な光閉じ込め構造を作製することを目的とした。白金触媒を形状として、ピラミッド構造、V字溝ストライプ構造を用い、薬液中でシリコン基板に接触させることで、シリコン基板表面に白金触媒の形状を転写可能であることが確認された。また、反応によって転写される構造が、n型、p型のシリコン基板、抵抗率によって変化し、そのメカニズムを検討することで反応についても知見を得た。
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