シリコーンゴム表面に極紫外光を照射することで局所的に付着力の異なる表面を形成し、これを版として用いることで、反転オフセット印刷およびマイクロコンタクト印刷と同等レベルのパターニングができることを知見した。さらに本技術を付着力コントラスト印刷法と名付け、そのパターニング原理を検証した。その結果、シリコーンゴムにインクが塗布された界面と、シリコーンゴムに対してインクを受理する界面において付着力が異なることを明らかにした。本技術を活用することで、安価な製版コストでかつパターン依存性のない印刷が実施できるため、工業的に高い価値を有すると考えている。 また、反転オフセット印刷において、シリコーンゴムと版界面における付着力を利用することで、印圧が負の状態でパターニングする方法を開発し、これをpush-pull法と名付けた。本方式により、反転オフセット印刷においても底当たり欠陥を回避することができるようになった。また、シリコーンブランケット上でパターニングされた半乾燥状態にあるインクパターンを溶媒蒸気に暴露することで、パターンサイズによらず均一膜厚を保持したままテーパを形成するリフロー技術を開発した。さらに本技術を用いることで、積層デバイスにおける段差欠陥を回避できることを実証した。このように、インクの半乾燥性制御を出発点として研究を遂行した結果、パターニング原理としてインク-シリコーンゴム界面の付着力が重要な役割を担っていることを明らかにできた。これをもって、付着力コントラスト印刷法、push-pull法およびリフロー技術を成功裏に開発することができた。
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