研究課題/領域番号 |
60420021
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研究機関 | 東京大学 |
研究代表者 |
岡野 達雄 東京大学, 生産技術研究所, 助教授 (60011219)
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研究分担者 |
辻 泰 アルバックコーポレートセンター, 取締役 (70013092)
寺田 啓子 東京大学, 生産技術研究所, 教務職員 (50114567)
本田 融 東京大学, 生産技術研究所, 助手 (90181552)
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キーワード | 原子線散乱 / 表面 / 原子状水素 / 偏極 / 準安定励起状態 / 電子励起 / 飛行時間分光法 / 凝縮 |
研究概要 |
本年度は計画の最終年度にあたり、本研究課題で開発された実験技術の表面研究への応用と結果の解析に重点を置いて研究を行った。具体的な研究項目は次の3つに大別される。 1.偏極水素原子線による表面散乱実験 前年度までに製作したRF放電解離型水素原子線源と精密移動機構を組み合わせ、原子状水素の表面散乱方向分布を計測するための可動検出器に関する研究を行った。検出方法としては、通常の四極子質量分析計による方法と並行して、赤外線検出用厚膜サーミスタ素子を利用する方法について検討と実験を行ない、正確な測定を行うための使用条件と測定限界を明らかにすることができた。 2.吸着原子の核偏極測定の開発 高エネルギー物理実験で利用されているビームファイル分光法による核偏極測定法を表面滞在水素原子の偏極測定に応用するための研究を継続した。水素イオンを加速するための四重極静電レンズやフォイル通過後の励起水素原子からの発光の光子計数偏光解析装置の開発に並行して、パルスレーザー照射による表面滞在原子のイオン化過程に関する研究を行った。イオン化効率の定量的な測定のためには、真空装置内におけるパルス放出気体に対する排気速度の定量が必要であり、コンダクタンス変調法と名付けた新しい真空系の機能解析法を創案した。 3.吸着水素分子のオルソパラ転換過程の電子分光学的研究 高分解能低速電子分光法による吸着水素分子の回転励起準位の測定結果を考察し、吸着水素分子のオルソ・パラ転換過程に及ぼす基盤表面や吸着被覆率の影響を明らかにした。この結果、吸着水素分子のオルソ・パラ転換速度の測定を通じて、表面におけるスピン相互作用を研究する糸口が得られた。
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