研究概要 |
エレクトロニクス分野の発展はめざましく,それにつれて関連する有機色素材料の応用研究が活発に行われている. ここでは,将来の光記録方式として注目されている半導体レーザ光記録材料用色素,レーザプリンタ等の電子写真用OPC材料や,光通信や半導体レーザの波長変換に利用される有機非線形光学材料の開発を目的として研究を行い,以下の成果をあげるとともに今後の展開を計った. 1.光記録材料用近赤外吸収色素の合成デザインをPPPMO法を用いて行い,分子内CT型発色系におよぼす置換基効果を定量的に予測した. その結果を用いて,フェノチアジンキノン系および2:1型フェンレンジアミンニッケル錯体系近赤外吸収色素を新規に合成し,その物性について検討した. 2.カルバゾールーナフトキノン系分子間LT型色素の吸収スペクトルをMO法を用いて解析し,スペクトルと構造の関係を定量化した. そして,カルバゾールヒドラゾンをドナー分子として用いることによって赤外領域に吸収をもつCT型色素を合成し,そのOPC特性について検討を行っている. 3.分子内CT型発色系をもつ各種の複素環化合物を有機非線光学材料として新規に合成デザインし, その第二高調波発生(SHG)特性について検討した. そして,置換基による結晶構造の差異がSHG活性を大きく左右すること,SHG活性分子の設計にPPPMO法が有効なことを見い出した. そして,シアノスチソル系化合物や,カルバゾールー3ーアルデヒド誘導体にすぐれたSHG活性が見い出された. 以上の成果は学会誌14報(1987年)と投稿論文7報によって公表している. また研究は既存設備とともに主要設備備品である分光光度計を用いて行った. これらの研究成果をもとに,本研究課題をさらに発展させていく予定である.
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