| 研究概要 |
N-メチルメタクリルアミド(NMMAm)と少量のジ-ヒーブチルパーフマレートの共重合をベンゼン中で行い、パーエステル基を含むミクロスフィアを合成した。このミクロスフィアを少量のエタノールを含むトルエン中に分散させ、70℃に加熱するか、室温でUV照射すると、NMMAmの生長ラジカルが安定に生成することが明らかとなった。この系に、スチレンやメタクリル酸メチルのようなビニルモノマーを存在させると、これらのモノマーはミクロスフィアラジカルと反応し生長ラジカルが生成する。これらのラジカルもミクロフィア内に存在するため極めて安定である。実験の重合条件に近い膨潤状態でこのように容易に安定な生長ラジカルを発生させ得る方法は、生長機構の解明に大いに役立つものと考えられる。
また、この反応を利用して、ミクロスフィアへの熱および光グラフト共重合を試みた。第2モノマーとして、主にメタクリル酸ベンジルを用い、種々の重合条件下で重合率,グラフト効率,あるいはポリマー増加率などについて検討した。
NMMAmとは、親和性の小さいシクロヘキサンを溶媒として、AIBNによるNMMAmの重合を行った。ベンゼン中での重合と異なり、この系では生成ポリマーはミクロスフィアとならず、サンゴ状沈澱となって系外に析出する。この場合の重合速度式として50℃で次式が得られた。重合系はNMRp=k【〔AIBN〕^(0.72)】【〔NMMAm〕^(0.82)】MAmのリビング生長ラジカルを含んでいる事がわかった。その生成効率は、有効開始ラジカルの約60%とかなり高かった。今後このリビングポリマーラジカルを用いてブロック共重合体の合成を試みたい。
また、アミド基を含む他のモノマーも幾つか合成し、その生長ラジカルの長寿命化について検討する予定である。
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