| 研究概要 |
1. 【N_2】雰囲気中で石英、アルミナの各基板に銅粉末の蒸着実験をした。その結果、いずれの基板にも微粒子状(半径1〜4μm)の銅が付着した。引っかき式付着力測定装置より付着力を測定した結果、通常の真空蒸着法で作成した銅薄膜の付着力よりも60倍以上大きいことがわかった。
2. 衝撃波管の電極をNbとし、その電極間にNbペレットを分布させ、キャリアガスを【N_2】と【H_2】の10:1の混合ガスとし、初期圧270Paのもとで衝撃波蒸着を行い、石英基板上にNbN薄膜を生成した。プラズマ流の分光写真から多数のNbイオン線が観察されたので、Nbはプラズマ状態で飛んでいることが確認された。ESCA,XMAの結果によると、薄膜はNbNで、膜厚は50〜60nmと推察された。SEM観察では、粒状,島状領域,及び成膜領域が観察された。極低温付近での薄膜の電気抵抗の温度依存性を調べた結果、アモルファス的な依存性を示し、さらに転移温度Tcがバルクよりも上昇していた。
3. 衝撃波管の電極をMoとし、電極間にMoペレットを分布させ、キャリアガスを【N_2】と【H_2】の3:1の混合ガスとし、衝撃波蒸着を行い、石英基板上にMoN薄膜を生成した。XMAの結果から、その膜薄は、40〜50nmと推定された。極低温付近での薄膜の電気抵抗の温度依存性を調べた結果、Tcがバルクの場合よりも9K程度大きく増加していた。他のグループでは、スパッタリングで作製したMoNを6GPaのもと、750℃以上でアニールをして、はじめて超伝導特性を出しているが、我々の場合、高圧下でアニールしなくても超伝導特性が出た。これは、高温,高圧のプラズマ流を利用している衝撃波蒸着の特徴をよく表わしている。
4.今後は膜の均一性、厚膜化及びクリーンな膜生成を目指しつつ、機械的電気的物性から衝撃波蒸着の特質を引き出すことが必要と思われる。
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