研究概要 |
研究初年度にあたる62年度はほぼ予定通りの進行状況である. 62年度はCVD装置のチャンバーの改造ならびに高感度分光システケ,質量分析計の設置をおこなったので,それぞれの進行状況について報告する. 既存のCVD装置のチャンバーは日本真空技術(株)に依頼した. 主体となる改造は,各種システムとの接続機能の付加である. これにより分光システムならびに質量分析計をチャンバーに接続することが可能となった. また, 原料ガス導入端子の数を増やし,様々な実験条件に対応することを可能にした. さらに,チャンバーに冷却用パイプをとりつけ,長時間,高温実験に耐えるようにした. これらの結果,ほぼ計画通りの実験が可能になった. 高感度分光システムは以下のようなシステムからなっている. チャンバーにとりつけたスプラジル窓からプラズマ光をひろい,日本分光CTー25C型回折格子分光器で分光する. 分光された光は浜松ホトニクスR955フォトマルで検出され,その信号は日本分光DHーBPフォトマルホンダーを経て,横河電機3025型XYレコーダにて記録される. このシステムの設置は終了し,計画通りの動作を確認した. 質覧分析計は日本真空技術MSQー150Aマスフィルター型質量分析計を設置した. チャンバー内からオリフィスを通しガスを質量分析計に導入する. 質量分析計内は付属の真空装置により常に10^<-5>Torr程度の真空が得られている. 質量分析計からの信号は横河電機3025型XYレコーダにて記録される. このシステムについても計画通りの動作が確認された. 以上のシステムにより,cBN膜合成中の基礎データ測定を開始した. 現段階下は特に問題なく測定が進行している.
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