| 研究課題/領域番号 |
63302021
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| 研究種目 |
総合研究(A)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 研究分野 |
応用物性
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| 研究機関 | 名古屋大学 |
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研究代表者 |
安田 幸夫 名古屋大学, 工学部, 教授 (60126951)
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| 研究分担者 |
米津 宏雄 豊橋技術科学大学, 工学部, 教授 (90191668)
西永 頌 東京大学, 工学部, 教授 (10023128)
美浜 和弘 名古屋大学, 工学部, 教授 (50023007)
内山 晋 名古屋大学, 工学部, 教授 (40023022)
赤崎 勇 名古屋大学, 工学部, 教授 (20144115)
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| 研究期間 (年度) |
1988 – 1989
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| キーワード | 機能性薄膜 / 薄膜形成技術 |
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| 研究概要 |
本研究の目的は、薄膜形成技術及び薄膜を応用した機能性材料を研究開発している第一線の研究者を集結し、相互の技術交流と学際的相互乗り入れを通して、新しい機能性薄膜の研究開発とその形成技術の開発を行うことである。2年間の研究を通して、現在注目されている種々の研究分野において、様々な機能を持つ薄膜が開発された。また、形成技術も多種多様であり、横断的連携によって、当初の目的を達成できたと考えられる。
具体的な研究成果の一端は、以下の通りである。
1.ガスソ-ス分子線エピタキシャル法が、本研究期間内に急激に発展し、良質でしかも精密制御された超薄膜の形成が可能になった。
2.励起プロセスの応用により、ダイヤモンド薄膜や有機材料ー金属の複合膜などの新しい機能を持った薄膜や通常の方法では形成できない薄膜の成長を可能にした。また、高温超伝動薄膜の形成温度の低温化も実現された。
3.原子層レベルの積層制御により,薄膜の物性から界面・表面で発現する物性の解明へと進展した。
4.ダイヤモンド薄膜の半導体としての応用、有機材料ー金属及び絶縁体ー半導体等の複合薄膜の物性など、機能性薄膜としての可能性を含んだ研究が発展した。
本研究により、材料分野及び技術分野と薄膜形成技術の結びつきを、マトリクスの形で把握することができた。これにより、薄膜形成技術の総合的かつ有効な活用を図ることが可能になるとともに,現在未知の分野として残っている領域をマトリクスの空白部分として明らかにすることができた。この空白部分は、新しい可能性を潜在させていると考えられ、今後の発展が期待される。
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