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[文献書誌] 須佐匡裕,後藤和弘: "Siウエハの熱酸化に関する基礎研究の現状" 日本金属学会報. 27. 266-276 (1988)
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[文献書誌] 須佐匡裕,永田和宏,後藤和弘: "薄い材料の熱伝導率と熱拡散率測定用スポット加熱法" 日本金属学会誌. 53. 543-549 (1989)
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[文献書誌] 須佐匡裕,篠原秀幸,永田和宏,後藤和弘: "シリコン基板の熱酸化に及ぼす臭素の影響" 日本金属学会誌. 53. 1054-1061 (1989)
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[文献書誌] 須佐匡裕,永田和宏,後藤和弘: "シリコン基板の熱酸化材構" 日本金属学会誌. 54. 33-40 (1990)
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[文献書誌] 須佐匡裕,篠原秀幸,永田和宏,後藤和弘: "非晶質シリカ薄膜中の酸素の拡散" 日本金属学会誌. 54. 193-200 (1990)
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[文献書誌] 張力〓,後藤和弘: "表示素子WO_<3ー6>薄膜の作成とLi^+の拡散係数の測定" 日本金属学会誌. 53. 906-913 (1989)
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[文献書誌] 畢暁〓,丸山俊夫,永田和宏: "モリブデン表面のアルミニウムコ-ティング層の組織とその耐酸化性" 日本金属学会誌.
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[文献書誌] Xiao Fang Bi,Toshio Maruyama and Kazuhiro Nagata: "Phase diagram of Mo-Al-Si ternary system at 1323K" J.Less Common Metals.
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[文献書誌] 畢暁〓,丸山俊夫,永田和宏: "ケイ素ーアルミニウム2段拡散処理によるモリブデンの高温酸化" 日本金属学会誌.