| 研究課題/領域番号 |
63460084
|
|---|
| 研究機関 | 東京都立大学 |
|---|
研究代表者 |
古川 勇二 東京都立大学, 工学部, 教授 (10087190)
|
|---|
| 研究分担者 |
横川 宗彦 東京都立大学, 工学部, 助手 (10191496)
諸貫 信行 東京都立大学, 工学部, 助手 (90166463)
佐久間 秀夫 東京都立大学, 工学部, 助手 (20128573)
大石 進 青山学院大学, 工学部, 助教授 (70094258)
坂木 庸晃 東京都立大学, 工学部, 教授 (50083332)
|
|---|
| キーワード | エッチング / 微細加工 / 仕上り精度 / コンピュ-タシミュレ-ション |
|---|
| 研究概要 |
部品形状の微細化、複雑化に対処するために、被削材材料の結晶構造を利用して形状を創生する異方性エッチング技術を確立することを目的としている。
本年度においては、前年度に行った各種エッチング条件と仕上り精度および加工能率について実験した結果をもとに、初期マスクパタ-ンからエッチングが進行する過程の法則を見出し、その過程をシミュレ-ションするためのアルゴリズムを確立し、そのシミュレ-タを16ビットパソコン上で開発した。
エッチング過程のシミュレ-ションによって、任意パタ-ンをシリコンに焼付けエッチングする場合の結晶方位とパタ-ンのマッチング、仕上り精度と加工能率の予測、また時間経過にともなう仕上り形状を2次元および3次元グラフィックスでビジュアルに得ることができるようになった。
また、このシミュレ-ションを用いて、要望する形状を得るために適するパタ-ン形状、たとえば凸部コ-ナのだれを防止するマスク形状を求めること、微細部におけるエッチング干渉を防止できる適切なマスク形状などを事前に求めることができるようになった。
以上によって、微細加工、とくに精度とエッチング干渉を従来のトライアンドエラ-による手法からシミュレ-ションによる手法に進歩させることができ、今後さらに高精度かつ微細加工ができる基礎が確立できた。
|
