| 研究概要 |
本研究により得られた成果は次の通りである。
1.マグネトロン型RFスパッタ装置を用いて、薄膜を作成し、エピタキシャル薄膜の作成法の確立の検討を行った。その結果、RFスパッタ後アニ-リングすることによって一部分単結晶化することを見いだし、サファイア単結晶基板上にエピタキシャルさせることの可能性を見いだした。さらに,これまで知られていない配向性薄膜の物理定数をバルク波と弾性表面波の伝搬特性から最小自乗法を用いて決定した。その結果、本薄膜基板の弾性表面波特性を理論的に求めることが可能になった。
2.これまで知られていない配向性薄膜の物理定数をバルク波と弾性表面波の伝搬特性から最小自乗法を用いて決定した。さらに、速度の温度係数の膜厚依存性から,各定数の温度係数を決定する方法を提案し、それを決定した。その結果、Ta_2O_5薄膜基板の弾性表面波特性を理論的に求めることが可能になった。
3.配向性薄膜の非線形特性を確認するために、エラスティックタイプの弾性表面波コンボルバを作成し、コンボル-ション効果の起こることを確認した。コンボルバ効率は、非線形係数が大きく一般に弾性表面波コンボルバに用いられているY-Z・LiNbO_3基板の値に比較しても、大きさに遜色はなく非線形材料としても十分使用可能であることが分かった
4.今後の課題として次の点が上げられる。(1)本薄膜の強弾性を明らかにし、弾性表面波非線形デバイスへの応用を図る。(2)基板の適切な選択をおこない、エピタキシャルな薄膜の作成条件を明らかにする。
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