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本転移因子は両末端にヘアピン・ル-プ構造を持つこと、末端部共通配列の存在、および2種類の二量体の構造から、これまで報告されていたものとは明らかに異なり、セルフ・プライミングの機構に基づいて複製されると考えられ、複製モデルを作製した。複製の過程は以下の通りである。(1)ル-プ基部の共通配列内に存在すると考えられる認識部位へのニッキングによりフリ-の3'-OH末端が生成される。(2)ほどけたル-プを鋳型にして新たなヘアピン・ル-プが形成される(3)新生ヘアピン・ル-プの3'-OH末端をプライマ-として自己のDNA鎖を鋳型に相補鎖を形成する。ここで、複製の開始が双方の末端から同時に起こる場合は、直接2分子のプラスミドが形成されるが、もしどちらか一方の末端から複製が開始される場合には、いったん二量体が形成され、これがプロセッシングを受けることによって2分子に分離される。本モデルの複製中間体の構造は、2種類の二量体の構造と完全に一致した。以上のように、本年度の研究では転移因子の構造を解明し、さらにその複製機構を解析した。
転移因子を持つR.Solani菌からの巨大DNAのバンドは、約1500Kbと約200Kbの位置に検出された。ミトコンドリアDNAのバンドは200Kb以下の位置に検出され、ミトコンドリアDNAをプロ-ブとしたサザン・ブロットの結果とも一致した。しかし、転移因子の間では現段階で相補性は認められなかった。
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