| 研究課題/領域番号 |
63850155
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| 研究種目 |
試験研究
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| 研究機関 | 宮城工業高等専門学校 |
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研究代表者 |
松浦 真 宮城工業高等専門学校, 基礎専門科目, 教授 (40042262)
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| 研究分担者 |
野本 俊夫 宮城工業高等専門学校, 機械工学科, 講師
小野 堯之 宮城工業高等専門学校, 一般科目, 教授
渡辺 宏 宮城工業高等専門学校, 基礎専門科目, 教授
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| キーワード | 金属多層膜 / X線構造解析 / 固相反応によるアモルファス化 |
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| 研究概要 |
本研究を遂行するための今年度中の計画は【○!1】多層膜用高周波スパッタリング装置を完成させる。【○!2】薄膜の膜厚制御に必要となる基礎的技術及びデータを得る。【○!3】薄膜のX線構造解析に必要な測定技術・解析法を確立する。今年度の実積としては、【○!2】と【○!3】はほぼ予定通り実施し得たが【○!1】については設備費の配分が予定の六割以下と予想以上に低かったため、今年度はターボ分子ポンプ排気装置を設置したものの、ベルジャー部が購入できず来年度の予算配分を待って完成させる予定である。【○!2】と【○!3】については既存の真空蒸着装置を用いて実行した。現在までにTbーCr、CrーTi2層膜を作製し膜厚制御のために必要なデータを得ることができた。特に膜厚についてはターリサーフを用い接触法で100〜〓程度の厚みまで精度よく測定できるようになった。またX線構造解析については数100〓程度の厚みであれば、通常の反射法でターゲットにCuをモノクロメータに湾曲LiFを用いれば十分精度よく測定できることが明らかとなった。以上の予備的実験の過程で得られた成果として、Tb蒸着膜がasdepo.の状態で著るしい歪が加わっており、これを300℃に焼鈍することにより歪が緩和し、さらに500℃に焼鈍すると(100)面に強く選択配向することが明らかとなった。現在種々との多層膜について固相反応によりアモルファス化が生ずるか否かについて調べている。
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