研究実績の概要 |
ホスフィン配位子とオレフィン配位子との長所を併せ持つホスフィンーオレフィン配位子が新たな配位子群として注目を集めている。我々は、面不斉アレーンクロム錯体の触媒的合成法における一連の研究の過程で、アレーンクロム錯体を基盤とする面不斉ホスフィンーオレフィン配位子(R)-1を期せずして開発することに成功した。 この配位子は、Rh触媒不斉1,4-付加反応において、環状エノンに対して、非常に高い反応性、及び立体選択性を示すものの、鎖状エノンに対しては、反応性および立体選択性ともに低く、その基質適用範囲は狭さが問題となっていた。また配位子の堅牢性においても問題があった。そこで、これらの問題点を解決すべく、さらなる配位子の改善に取り組み、面不斉Cpマンガン錯体を基盤とする第二世代型ホスフィンーオレフィン配位子の開発を行った。その結果、クロム錯体配位子と比較して、大幅に配位子の堅牢性が改善されただけでなく、反応性・立体選択性についても大幅に向上することがわかった。クロム配位子では、良い成績を与えなかった鎖状エノン類に対する不斉1,4-付加反応を行った。その結果、反応性、および立体選択性は大きく向上することがわかった。さらに、ロジウム触媒によるアリールアルデヒド N-トシルアミンと、フェニルボロキシンとの不斉1,2-付加反応について検討を行ったところ、ホスフィン上の置換基として、3,5-ジトリフルオロメチルフェニル基をもつ配位子や、3,5-ジメトキシ-2-tert-ブチルフェニル(DTBM)基をもつ配位子を用いた場合に、収率、選択性共に非常に高い付加体を与えることが明らかとなった。
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