|
本研究は、これまでにない大きなスピン流を生成できるスピン流源の作製を目指して、強磁性体細線の集合群における磁壁の運動から発生するスピン流の検知、制御を試みることを目的とする。スピン流の生成には、スピンポンピングと呼ばれる、強磁性体の磁化のダイナミクスから発生する機構を利用する。スピン流生成のために、これまで細線中の磁壁のダイナミクスの理解が進んでいるNiFe合金と、フェルミ面近傍の電子スピンの分極率が100%に近く、大きなスピン流源として期待できるホイスラー合金などを用いる。磁壁のダイナミクスから発生したスピン流を検出し、強磁性体内の磁気モーメントのダイナミクスをどのように制御すれば、スピン流を効率的に生成することが可能なのかを明らかにする。
平成21年度は、ナノスケール金属細線の微細加工技術の確立に取り組み、幅が数百ナノメートルの細線に電極や絶縁パッドを組み合わせたデバイスの作製が可能となった。また、作製した細線を評価する設備の導入を行い、本研究において重要となるナノ秒・ナノボルト領域における時間分解電気抵抗測定技術を確立した。電圧分解能は、現在数百ナノボルト程度の値が得られた。さらに、様々な強磁性体細線において磁壁の運動を検出できる様、誘導起電力検出法を確立した。
|
