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2011 年度 実績報告書

高分子-液体間ナノ界面における高分子鎖シミュレーション解析

公募研究

研究領域ソフトインターフェースの分子科学
研究課題/領域番号 23106723
研究機関独立行政法人産業技術総合研究所

研究代表者

森田 裕史  独立行政法人産業技術総合研究所, ナノシステム研究部門, 主任研究員 (10466790)

キーワード粗視化シミュレーション / 膨潤 / 溶解 / 高分子鎖ダイナミクス
研究概要

本研究の目的は、粗視化シミュレーションを用いて、高分子-液体間ナノ界面における界面場中における高分子鎖のコンフォメーションとダイナミクスを明らかにし、1分子鎖のサイエンスの観点から、高分子-液体間界面がソフト界面となりうるメカニズムを明らかにすることである。実験として、九州大学の田中らの実験研究によって、本来水に溶けないポリメチルメタクリレート(PMMA)におけるPMMA-水界面において、厚さが10nmを超えるナノ膨潤層が報告されている。本研究では、高分子の粗視化モデルを用いたシミュレーション用い、高分子と液体の間の相互作用パラメータを変えることで、非溶解状態・膨潤状態・溶解状態の3つの状態の相境界について分子鎖がわかるシミュレーションを用いて明らかにすることにある。
H23年度に実施した研究テーマは、以下の2つについて検討した。
1)液体-高分子薄膜界面のモデル化を行う。
2)1)で決定したモデルを用い、高分子の各粒子と溶媒との間の相互作用等を変えながら、非溶解状態から膨潤状態、溶解状態への状態の転移をシミュレーションで、記述する。
この結果、平均場法を用いたモデル、及び散逸粒子動力学(DPD)法を用いたモデルの2つのプロトタイプのモデルを用いることで、非溶解状態、膨潤状態、溶解状態を記述できることが示された。平均場法を用いたモデルにおいては、密度分布によって、3つの状態の記述に成功した。また、DPD法を用いたモデル化においては、分子鎖で可視化できるものとして、3つの状態の記述に成功した。これらのモデルは、実際に九州大学で行われている実験に見られる非平衡な膨潤状態の記述をまとめの研究として行うことに適用できるものであり、研究における1つの段階をクリアすることができた。
さらに、H23年度は、公募研究の1年目にあたるが、本新学術領域において行なわれている実験研究について情報収集を行い、理論・シミュレーションからのアプローチにより、ソフト界面で見られる構造・現象・物性等のメカニズム解析において貢献できる研究テーマについて検討し、複数の連携の候補を見つけることができた。

現在までの達成度 (区分)
現在までの達成度 (区分)

2: おおむね順調に進展している

理由

当初の研究計画どおり、初期のモデルの構築に成功し、また、領域内における連携テーマの探索も進めることができたため。

今後の研究の推進方策

H24年度については、申請時には大規模計算を行なう予定であった。本年度は、より簡便かつ汎用性が高い手法をとる方法がいいと考え、研究室にある計算機でまかなえる中規模の計算を行い、モデル化とうまくハイブリッドさせることで、当初より目標としていた実験結果をうまく再現できる精度高いモデル化を目指すこととした。なお、以前より規模が大きな計算を行うために、並列化シミュレーションプログラムの導入のための準備も既に行っている。

  • 研究成果

    (6件)

すべて 2012 2011

すべて 雑誌論文 (1件) 学会発表 (5件)

  • [雑誌論文] Mesoscale simulation of the line-edge structure during positive and negative tone resist development process2012

    • 著者名/発表者名
      Ichiro Okabe, Saurabh Agarwal
    • 雑誌名

      Proc.SPIE

      巻: 8325 ページ: 83250J

    • DOI

      10.1117/12.916389

  • [学会発表] 液体に接した高分子ソフトナノ界面における高分子鎖シミュレーション2012

    • 著者名/発表者名
      森田裕史
    • 学会等名
      第92日本化学会春季年会特別企画講演ソフト界面を活かした先端化学
    • 発表場所
      慶應義塾大学日吉キャンパス(神奈川県)
    • 年月日
      2012-03-28
  • [学会発表] Mesoscaie simulation of the line-edge structure during positive and negative tone resist development process2012

    • 著者名/発表者名
      Hiroshi Morita, Tchiro Okabe, Saurabh Asarwal, Vivek K.Singh
    • 学会等名
      SPIE advanced lithography
    • 発表場所
      San Jose Convention Center(アメリカ合衆国カリフォルーア州)
    • 年月日
      2012-02-14
  • [学会発表] 水-高分子界面のモデル化と高分子鎖のシミュレーション2011

    • 著者名/発表者名
      森田裕史
    • 学会等名
      第31回表面科学講演大会ソフトナノテクノロシー研究部会
    • 発表場所
      タワーホール船堀(東京都)(招待)
    • 年月日
      2011-12-15
  • [学会発表] Dissolution process simulation of the resist film2011

    • 著者名/発表者名
      Hiroshi Morita
    • 学会等名
      International Workshop for Molecular Simulations for Polymers
    • 発表場所
      京都大学化学研究所(京都府)(招待)
    • 年月日
      2011-09-09
  • [学会発表] ネガ型レジスト高分子薄膜の溶解プロセスシミュレーション2011

    • 著者名/発表者名
      森田裕史
    • 学会等名
      第60回高分子学会年次大会
    • 発表場所
      大阪国際会議場(大阪府)
    • 年月日
      2011-05-25

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公開日: 2013-06-26  

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