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典型的には50 mm x 5 mm 厚さ1~2 mm のシンチレータにベータ線を射出し，そのことで得られるシンチレーション光を PPD (ピクセル化光検出器)でとらえ，光量の位置一様性とその強度が優れているシンチレータ - PPD 系を開発する事が本研究の目的である．昨年度は入射位置を精度良く自動コントロールするシステムを開発したが，本年度はそれをより安定させ，より大きなシンチレータ，多様な PPD 設置位置を設定できる装置を開発し，多くの条件の測定をこなした．当初考えていたシンチレータ形状では無く，もともと完全直方体だったシンチレータの厚みと幅とを先端 5 mm ぐらいのところから斜めに削り落とし，その先端に PPD を置く方法が，光量の強度と一様性をよくすることが分かったので，シンチレータ形状はそちらを採用して研究を進めた．これによって今後の高エネルギー実験で使えるシンチレータ-PPD 系の方向をほぼ確立した．
シミュレーションの研究も進め，幾つかのパラメータを拾い出し，シミュレーションで実験前に結果を予想するところに達した．すなわち，表面の反射成分には乱反射と鏡面反射の2種類のパラメータを設けた．これにより，いかに表面での吸収が少なくとも，鏡面反射の成分が少なければ，光量，一様性ともに悪くなることと，そのメカニズムを理解できた．いったんこれらの成分と，吸収率を実験の結果と合わせると，あとは形状パラメータを調整して，調べたい形状のシンチレータの光強度と光一様性を予測できるようになった．
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