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2014 年度 実績報告書

放射光ナノ顕微分光による原子層デバイスの界面状態オペランド解析とその系統的研究

公募研究

研究領域原子層科学
研究課題/領域番号 26107503
研究機関東北大学

研究代表者

永村 直佳  東北大学, 多元物質科学研究所, 助教 (40708799)

研究期間 (年度) 2014-04-01 – 2016-03-31
キーワードグラフェン / 放射光 / イメージング
研究実績の概要

本研究の目的は、研究代表者らが開発してきた3次元ナノ空間分解走査型光電子顕微分光装置「3D nano-ESCA」を拡張して、デバイス動作中の過渡過程における異種接合界面や空間不均一性を探索する「オペランドナノスペクトルイメージング」を実現し、これを原子層デバイスの分析に活用することでデバイス性能向上のための指針を提示することである。初年度である今年度は、以下の項目を行った。
(1) 電圧印加機構と半導体パラメーターの導入:バイアス電圧やドレイン電圧を印加できるように、試料ホルダーと試料ステージを改良した。また、半導体デバイスの輸送特性測定と顕微分光測定を同時に行えるように、半導体パラメーターアナライザーを配線に組み込んだ。
(2) バイアス電圧印加条件下でのグラフェン電界効果トランジス(GFET)内局所電子状態のoperando解析:GFETのチャネル上のピンポイントコアレベルスペクトルに対するゲート電圧依存性を測定した。その結果、C 1sのコアレベルがピークシフトを起こし、シフト量とゲート電圧の関係性は、グラフェン特有の線形分散を再現するものであった。
(3) GFET における異種接合界面状態の系統的分析(基板/チャネル界面):基板処理方法が異なる親水性基板と疎水性基板を用いてGFETを作製し、金属電極/チャネル接合界面近傍をラインスキャンしたところ、接触抵抗の原因となる電荷移動領域の大きさが異なることが実証された。
上記の成果により、論文を2本出版し(1本執筆中あり)、2件の招待講演を行った。

現在までの達成度 (区分)
現在までの達成度 (区分)

2: おおむね順調に進展している

理由

予定通り年度初頭に電圧印加機構・半導体パラメーターの導入が完了し、実際にこれらを使用したデバイスのオペランド分析が行われている。3DnanoESCAを活用した分析に関しては順調に進行しているが、当初提案していた、グラフェンエッジ状態の直接観察とナノグラフェンのデバイス応用に関しては困難であったため、新学術領域内の共同研究を拡充させるよう方針を転換した。

今後の研究の推進方策

昨年度のうちに装置セットアップとGFETの基礎的な電子状態解析を行っているので、本年度は原子層デバイスの系統的分析(原子層の種類、層数、界面状態など)に取り組む。また新学術領域内で、3DnanoESCAによる分析が可能なデバイスや材料を持つグループとの共同研究を推進する。

  • 研究成果

    (5件)

すべて 2014 その他

すべて 雑誌論文 (2件) (うち査読あり 2件、 オープンアクセス 1件) 学会発表 (2件) (うち招待講演 2件) 備考 (1件)

  • [雑誌論文] Microscopically-Tuned Band Structure of Epitaxial Graphene through Interface and Stacking Variations Using Si Substrate Microfabrication2014

    • 著者名/発表者名
      H. Fukidome, T. Ide, Y. Kawai, T. Shinohara, N. Nagamura, K. Horiba, M. Kotsugi, T Okhouchi, T. Kinoshita, H. Kumigashira, M. Oshima, and M. Suemitsu
    • 雑誌名

      Scientific Reports

      巻: 4 ページ: 5173

    • DOI

      10.1038/srep05173

    • 査読あり / オープンアクセス
  • [雑誌論文] Pinpoint Operando Analysis of the Electronic States of a Graphene Transistor by Using Photoelectron Nanospectroscopy2014

    • 著者名/発表者名
      Hirokazu Fukidome, Kosuke Nagashio, Naoka Nagamura, Keiichiro Tashima, Kazutoshi Funakubo, Koji Horiba, Maki Suemitsu, Akira. Toriumi, and Masaharu Oshima
    • 雑誌名

      Applied Physics Express

      巻: 7 ページ: 065101

    • DOI

      10.7567/APEX.7.065101

    • 査読あり
  • [学会発表] 3次元ナノESCAを活用した電子・エネルギーデバイスのオペランド解析2014

    • 著者名/発表者名
      永村直佳
    • 学会等名
      日本真空学会2014年12月研究例会 主題「次世代放射光における加速器・真空科学と表面分析」
    • 発表場所
      東北大学 片平キャンパス
    • 年月日
      2014-12-03 – 2014-12-03
    • 招待講演
  • [学会発表] 放射光軟X線走査型顕微分光を活用したナノデバイス表面・界面解析2014

    • 著者名/発表者名
      永村直佳
    • 学会等名
      日本学術振興会「先端ナノデバイス・材料テクノロジー第151委員会」 平成26年度 第5回研究会
    • 発表場所
      早稲田大学 研究開発センター
    • 年月日
      2014-11-14 – 2014-11-14
    • 招待講演
  • [備考] グラフェン素子の性能劣化原因とされる高抵抗領域の形成メカニズム解明

    • URL

      http://www.spring8.or.jp/ja/news_publications/press_release/2013/130531/

URL: 

公開日: 2016-06-01  

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