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2010 Fiscal Year Annual Research Report

プラズマとナノ界面の相互作用に関する総括研究

Administrative Group

Project AreaCreation of Science of Plasma Nano-Interface Interactions
Project/Area Number 21110001
Research InstitutionKyushu University

Principal Investigator

白谷 正治  九州大学, システム情報科学研究院, 教授 (90206293)

Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) 寺嶋 和夫  東京大学, 新領域創成科学研究科, 教授 (30176911)
斧 高一  京都大学, 工学研究科, 教授 (30311731)
永津 雅章  静岡大学, 創造科学技術大学院, 教授 (20155948)
小松 正二郎  物質・材料研究機構, ワイドバンドギャップ半導体グループ, グループリーダー (60183810)
後藤 元信  熊本大学, バイオエレクトリクス研究センター, 教授 (80170471)
Keywordsプラズマ / ナノ界面 / 相互作用 / トップダウンプロセス / ボトムアッププロセス / 揺らぎ
Research Abstract

今年度の研究で、領域の目的のうち、1)揺らぎ決定機構の解明、2)揺らぎを抑制する方法の開発、3)揺らぎを増幅する方法の開発の達成に関して見通しが得られた。また、いくつかの世界初の成果と新しい研究展開のシーズとなる新着想が得られた。
A01班(ナノ界面プラズマを作る)では、集積化マイクロソリューションプラズマ、超臨界クラスタ流体中のプラズマ、固・液・気・超臨界相が混在するプラズマ等を創成してきた。これら研究成果は、プラズマとナノ界面の相互作用の理解とその制御方法の開発につながる成果である。また、超臨界クラスタ流体中のプラズマの特長を生かして、5-12次のダイヤモンドイド合成に初めて成功した。
A02班(ナノ界面プラズマを見る)では、プラズマ・固体界面に関係する諸量、プラズマ・液体界面に関係する諸量、プラズマ・生体界面に関係する諸量等に関する計測を中心に研究を推進してきた。特に、反応性プラズマ中のナノ粒子の成長に関して、ナノ粒子の数密度をパラメータとして、正帰還、帰還無し、および負帰還の3つの成長領域が存在することを明らかにした。これにより、反応性プラズマ中のナノ粒子生成という限られた系ではあるが、領域の目的のうち、1)揺らぎ(ナノ粒子サイズ分布)決定機構の解明、2)揺らぎを抑制(負帰還)する方法の開発、3)揺らぎを増幅(正帰還)する方法の開発、の達成に見通しが得られた。
A03班(ナノ界面プラズマを使う)では、ULSI用の次世代ナノ加工技術、超臨界流体プラズマの材料プロセシングおよび物質変換、バイオ・医療分野への応用を目的としてナノ粒子創成、プラズマ揺らぎが誘起する多形結晶創成等を推進してきた。次世代ナノ加工技術に関しては、ナノスケールの表面荒れの発生機構に対する理解が進んだ。また、プラズマ・液体界面の相互作用を用いて、プラズマの構造を液体界面に直接転写することや高効率メタノール合成に成功した。

  • Research Products

    (10 results)

All 2010 Other

All Journal Article (3 results) (of which Peer Reviewed: 1 results) Presentation (6 results) Remarks (1 results)

  • [Journal Article] プラズマ・プロセス技術2010

    • Author(s)
      白谷正治
    • Journal Title

      応用物理

      Volume: 79 Pages: 717-719

  • [Journal Article] Academic Roadmap of Plasma Process Technologies2010

    • Author(s)
      M.Shiratani
    • Journal Title

      Proceedings of 63^<rd> Annual Gaseous Electronics Conference and 7^<th> International Conference on Reactive Plasmas

      Pages: FT.00004

  • [Journal Article] Fluctuation Control for Plasma Nano technologies2010

    • Author(s)
      M.Shiratani, K.Koga, G. Uchida, K.Kamataki, N.Itagaki
    • Journal Title

      Proceedings of IEEE TENCON 2010

      Pages: xii-xvi

    • Peer Reviewed
  • [Presentation] Fluctuation Control for Plasma Nanotechnologies2010

    • Author(s)
      Masaharu Shiratani
    • Organizer
      IEEE TENCON 2010
    • Place of Presentation
      福岡国際会議場
    • Year and Date
      2010-11-22
  • [Presentation] 新学術領域研究:プラズマとナノ界面の相互作用に関する研究2010

    • Author(s)
      白谷正治
    • Organizer
      第26回九州・山口プラズマ研究会
    • Place of Presentation
      大分県日田市山陽館
    • Year and Date
      2010-11-05
  • [Presentation] プラズマの産業応用の進展と今後の展望2010

    • Author(s)
      白谷正治
    • Organizer
      第8回核融合エネルギー連合講演会
    • Place of Presentation
      高山市民文化会館
    • Year and Date
      2010-06-10
  • [Presentation] Plasma Applications in the near Future2010

    • Author(s)
      Masaharu Shiratani
    • Organizer
      2010 International Workshop on Plasma Applications
    • Place of Presentation
      九州大学伊都キャンパス
    • Year and Date
      2010-06-04
  • [Presentation] プラズマナノ界面の学理と産業応用2010

    • Author(s)
      白谷正治
    • Organizer
      日本学術振興会プラズマ材料科学第153委員会第96回研究会
    • Place of Presentation
      京都市国際交流会館
    • Year and Date
      2010-05-21
  • [Presentation] Research Roadmap for Plasma Processing for Next Three Decades2010

    • Author(s)
      Masaharu Shiratani
    • Organizer
      2010 International Workshop on Environment and resources
    • Place of Presentation
      台湾、明志科技大学
    • Year and Date
      2010-05-08
  • [Remarks]

    • URL

      http://mm4.ed.kyushu-u.ac.jp/kyudai/index.html

URL: 

Published: 2012-07-19  

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