2004 Fiscal Year Annual Research Report
CVD法による多結晶シリコン膜合成時における膜構造の制御
Project/Area Number |
03J11221
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Research Institution | The University of Tokyo |
Principal Investigator |
梶川 裕矢 東京大学, 大学院・工学系研究科, 特別研究員(PD)
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Keywords | 構造制御 / 薄膜 / 化学気相成長法 / 材料プロセス / 知識抽出 / オントロジー / 自然言語処理 / 知識の構造化 |
Research Abstract |
本研究における、研究実績は主に二つのテーマからなる。一つは、薄膜材料プロセスにおける構造制御に関するケーススタディであり、もうひとつは、構造制御のためのモデル構築の方法論に関する研究である。 前者としては、薄膜材料プロセスにおける、初期製膜過程での核発生・遅れ時間、最終的な合成膜の配向性、表面凹凸の制御を研究課題として取り上げた。結果、当初の予定であった多結晶シリコン膜の構造制御という課題を乗り越え、材料種によらない、汎用的なフレームワークを提示することができた。具体的には、温度、圧力といった操作条件と、膜構造に関する、ファクトデータの収集、その背後にある理論的なメカニズムに関する調査を行い、現在までにプロセス制御に関して知らされている知見を網羅的に収集した。それら知見は、総説として国際的な学術誌上にて報告している。 また、後者のモデル構築方法論の研究として、研究者が問題としている現象に対する作業仮説を効率的に構築するためのツールを開発した。具体的には、文献調査プロセスにかかるコストを大幅に低減するための、膨大な文書情報からの自然言語処理を用いた知識抽出エンジンの開発を行った。また、得られた情報から、本質的な情報のみを抽出する方法論の提示を行い、国際的な学術誌上にて報告した。
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Research Products
(6 results)