2004 Fiscal Year Annual Research Report
補償作用と核内倍加現象に焦点をおいた葉形態形成の分子機構の解明
Project/Area Number |
04F04179
|
Research Institution | National Institutes of Natural Sciences Okazaki Research Facilities |
Principal Investigator |
塚谷 裕一 大学共同利用機関法人自然科学研究機構(岡崎共通研究施設), 岡崎統合バイオサイエンスセンター, 助教授
|
Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
FERJANI Ali 大学共同利用機関法人自然科学研究機構(岡崎共通研究施設), 岡崎統合バイオサイエンスセンター, 外国人特別研究員
|
Keywords | 葉 / 形態形成 / 補償作用 / 細胞増殖 / 細胞伸長 / 細胞数 / 細胞の大きさ / 有限成長 |
Research Abstract |
1.葉の成長過程において補償作用が誘導される時期を同定するために以下の実験を行った。 野生株と補償作用を示す変異体219と697とKRP2過剰発現体について葉肉細胞の数と大きさの変化を経時的に測定した。その結果、補償作用を示す変異体では細胞増殖速度が遅い事が分かった。また、KRP2過剰発現体では細胞増殖速度が最も遅く、そして補償作用が最も早く誘導される事が分かった。さらに異なる変異体の間で補償作用が誘導される時期が異なる事が明らかとなった。 2.補償作用が誘導される時に働く遺伝子を調べるために以下の実験を行った。 野生株と補償作用を示す219と697変異体とKRP2過剰発現体についてDNAマイクロアレイ解析を行った。現在得られたデーター解析をすすめているところである。 3.補償作用を示す変異体の原因遺伝子の同定するために以下の実験を行った。 現在用いている5系統の変異体の原因遺伝子をMap-based cloning法により補償作用を示す変異体の原因遺伝子を同定するための実験を同時に行った。163変異体の原因遺伝子は5番染色体上に、218変異体の原因遺伝子は2番染色体上に、219、617と697変異体の原因遺伝子は1番染色体上にある事がrough mappingの結果からわかった。
|