2004 Fiscal Year Annual Research Report
Project/Area Number |
04F04335
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Research Institution | Tohoku University |
Principal Investigator |
林 一夫 東北大学, 流体科学研究所, 教授
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Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
MACODIYO Dan Asha Odhiambo 東北大学, 流体科学研究所, 外国人特別研究員
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Keywords | シリコン / 結晶 / ひずみ / 応力 / 赤外線 / ゲッタリング / キャビテーション / 噴流 |
Research Abstract |
ポリシリコン薄膜は、MEMS(Micro-Electro-Mechanical System)などに幅広く使われているが,その寸法が微小であるためにその機械的特性の評価が極めて困難である。またシリコンウェーハにひずみを導入することにより,ウェーハに不可避的に侵入する不純物を捕獲(ゲッタリング)することが可能である。本研究では,シリコンが赤外線を透過して赤外線に対して光弾性を有することを利用して赤外線を用いた光弾性試験によりひずみを定量的に評価することを目的とする。初年度である本年度は,以下の研究を実施して,研究の基盤を築いた。 1.キャビテーション噴流によるシリコンウエーハへのひずみの導入 水中に高圧水を噴射してキャビテーションを発生させるキャビテーション噴流により,シリコンウェーハの裏面を加工してウェーハ裏面にひずみを導入した。次に,このウェーハ表面に,Cuで故意汚染をしながらMOS(Metal On Silocon)回路を作製してC-V特性を計測した。その結果,キャビテーション噴流によりゲッタリングサイトとなるひずみ(バックサイドダメージ)を導入した領域のC-V特性は,汚染をしていないウェーハのC-V特性に近く,ゲッタリング効果があることを実証した。 2.シリコン微小部計測用赤外線光弾性試験装置の試作 赤外線を用いた光弾性によりシリコンなどの残留応力やひずみを計測するために,赤外線レーザとレンズや偏光フィルタなどの赤外線用の光学系によりひずみを光弾性を用いて計測するシリコン用赤外線光弾性試験装置を試作し,た冷却CCDカメラにより光弾性の様相を観察した。
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Research Products
(2 results)