2004 Fiscal Year Annual Research Report
Project/Area Number |
04F04746
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Research Institution | Hokkaido University |
Principal Investigator |
魚崎 浩平 北海道大学, 大学院・理学研究科, 教授
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Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
QU Deyu 北海道大学, 大学院・理学研究科, 外国人特別研究員
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Keywords | 自己組織化単分子層 / チオール / 金電極 / 還元脱離 / STM |
Research Abstract |
本研究は、末端にチオール基(-SH)を導入した種々の機能性有機分子の修飾時の電極電位、修飾分子の濃度、pH、溶媒、温度等の最適条件を見つけ、薄膜の構造を制御しながら薄膜を成長させるための手法を確立し、新規機能性表面を創出を目指して行っており、本年度は以下の成果を得た。 電気化学セルおよび単結晶電極を作成し、単結晶表面へのチオール分子の析出に最適な条件を検討した。具体的には、電極電位、修飾分子の濃度、pH、溶媒、温度といった種々のパラメータを変化させながら、薄膜形成をし、電気化学的還元脱離により、薄膜の配向・構造を評価した。さらに、作成した膜の原子・分子レベルでの構造を走査型トンネル電子顕微鏡(STM)を用いて評価した。また、基板として白金単原子層を利用するために、その作製法を検討した。
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