2005 Fiscal Year Annual Research Report
エピタキシャルアルミナ膜の成長制御と物性その場評価
Project/Area Number |
05F05613
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Research Institution | National Institute for Materials Science |
Principal Investigator |
吉武 道子 独立行政法人物質・材料研究機構, ナノマテリアル研究所, 主席研究員
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Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
TSUD Nataliya 独立行政法人物質・材料研究機構, ナノマテリアル研究所, 外国人特別研究員
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Keywords | アルミナ膜 / 超高真空 / X線光電子分光 |
Research Abstract |
ナノメーター厚さの良く制御されたアルミナ膜は、トンネルバリアとしてナノエレクトロニクスの分野で、また、トンネル構造を利用したセンサーの分野で、貴金属クラスターを担持する触媒の分野でと、様々な分野で重要な物質である。 受入研究者のグループではエピタキシャルアルミナ膜の成長に関して研究を行っており、センサーや触媒の観点からアルミナ-金属相互作用を研究してきたNataliya TSUDと共同で、エピタキシャルアルミナ膜の結晶構造、化学量論比、膜厚がセンサー・触媒能に与える影響という観点および、トンネルバリア用金属電極とアルミナとの界面における電子構造という観点から、エピタキシャルアルミナ膜の成長制御と物性その場評価に関して研究を行う。 特に、受入研究者のグループで発見した、Cu-Al合金単結晶上のアルミナ膜成長の系を用いて、超高真空中で、X線光電子分光法、紫外線光電子分光法、ケルビンプローブ法、低速電子線回折法、走査型トンネル顕微鏡法などの手法を用いてアルミナ膜成長のその場観察と物性のその場評価を行う。 エピタキシャルアルミナ膜をリン酸基有機分子の自己組織化成長基板として用いるために、リン酸基有機分子をアルミナ膜上に超高真空中で蒸着し、その成長を、in-situでX線光電子分光法(XPS)により観察し、蒸着条件の最適化を行うとともに、一分子層相当のリン酸基有機分子膜からのP原子内殻光電子ピークの強度を求めた。
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