1995 Fiscal Year Annual Research Report
振動薄板による円柱まわりの流れのアクティブコントロール
Project/Area Number |
06650199
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Research Institution | Yamanashi University |
Principal Investigator |
宮田 勝文 山梨大学, 工学部, 教授 (10023318)
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Keywords | 乱流せん断流 / 円柱まわりの流れ / 流れの制御 / アクティブコントロール / 円柱抗力 / ストロハル数 / 周期的撹乱 / 撹乱流 |
Research Abstract |
一様流中の二次元的円柱まわりの流れを制御することを目的として,ここでは抗力の低減を第一義的に考え,円柱本体に作用する抗力に比較してその抗力の大きさが無視できる程に薄い板,あるいは円柱本体の1%程度の大きさの小円柱を,円柱の赤道位置の剥離せん段層近傍に設置して,これら制御物体が円柱まわりの流れに及ぼす影響を実験的に調べた. 本年度は,これまでよりも大きな測定部(500mm×500mm)を有する低騒音風洞(平坦特性で75dB〜90dB)を製作し,供試円柱径を25mmと昨年度の約2倍とした.この風洞を用いて,円柱レイノルズ数2×10^4,剥離直前の層流境界層厚さ約0.4mmという条件の下で,厚さ0.3mmの薄板および,直径0.4mmと0.2mmの小円柱について,円柱まわりの圧力分布と剥離セン断層近傍の流れ場を詳細に測定した.本年度の研究により得られた結果は次の通りである. (1)薄板および小円柱を,円柱の赤道位置から主流方向に,剥離点直前の境界層厚さの約4倍離れた位置で,流れ方向に移動させると,抗力係数が大きく低減する位置が少なくとも一箇所はある. (2)薄板による抗力の低減法は,薄板前縁が剥離セン断層の直後,または後縁がせん断層の近傍に一致するときに最も効果的で,低減率は25%に達する. (3)小円柱による低減法は,小円柱を剥離せん断層上に設置したときに最も効果的で,低減率は薄板と同じく25%に達する.
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Research Products
(1 results)