歯槽骨再構築およびインプラント体への高分子電解質錯体の応用

1995 Fiscal Year Annual Research Report

• Project/Area Number: 07457476
• Research Category: Grant-in-Aid for General Scientific Research (B)
• Research Institution: Showa University
• Principal Investigator: 芝 あき彦 昭和大学, 歯学部, 教授 (70013969)
• Co-Investigator(Kenkyū-buntansha): 丸岡 宗康 昭和大学, 歯学部, 助手 (00245812) ; 瀧澤 秀樹 昭和大学, 歯学部, 助手 (50236387)
• Keywords: 高分子電解質錯体 / 人工歯根 / 骨吸収および再形成 / コラーゲン合成 / TGF-β / 細胞増殖

Research Abstract

本研究は高分子電解質錯体を用いて老化あるいは疾病により生じた歯の周囲の支持骨の吸収部を新生骨形成により骨の再構築を行うこと、抜歯窩の表面を膜により閉鎖し、抜歯窩内に新生骨形成基質を入れ顎堤の吸収を防ぐこと、人工歯根と骨組織との骨結合に要する期間を新生骨の形成の促進により短縮させることあるいは人工歯根に歯根膜を付着させることを目的としている。
本年はポリカチオンは6種類、ポリアニオンは15種類、合計90種類の高分子電解質錯体を作製し、90種類の高分子電解質錯体を基質として用いた場合の骨原生細胞株(MC3T3-E1)の分化に与える影響をアルカリ性ホスファターゼ活性を指標として測定を行った。その結果、対照群の非コーティングディッシュと比較して同等かそれに近い値を示したものは18種類であった。これらの高分子電解質錯体膜は生体機能材料として十分使用できるものであることが判明した。
また、ヒト歯根膜由来線維芽細胞を用いた細胞外基質における細胞増殖試験では細胞外基質の相違により細胞数に変化をもたらしたが、いずれの基質で培養した場合でも細胞増殖は促進され、細胞外基質の影響を受けなかった。
コラーゲン合成能の測定は、SDS-PAGEで電気泳動後、フルオグラフィーを作成して検討したが、IV型コラーゲン及びフィブロネクチン上での培養が対照群と比較して有為に高値を示した。TGF-βを添加した場合ではいずれの細胞外基質で培養しても非添加群と比較してその値は増加した。特にI型コラーゲンとホリ-D-リジン上で培養した場合がコラーゲン合成量は促進された。このことはヒト歯根膜由来線維芽細胞の増殖および代謝は周囲の基質や液成分による環境因子によって変化することが示唆された。