2007 Fiscal Year Annual Research Report
特殊3次元形状形成技術の研究とそれによる高機能デバイスの実現
Project/Area Number |
07J07448
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Research Institution | Kagawa University |
Principal Investigator |
岡田 和志 Kagawa University, 工学研究科, 特別研究員(DC1)
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Keywords | 厚膜レジスト / 金型 / 微細転写技術 / 高アスペクト比 / 特殊3次元形状 |
Research Abstract |
本年度は主に,厚膜レジストによる高アスペクト比特殊3次元形状製作技術、微細構造・特殊構造への特殊メッキ技術および金型を用いた微細転写技術に関して検討を行った. 厚膜レジストによる高アスペクト比特殊3次元形状製作技術に関して,厚膜レジストを用いて形状を形成する際に,多くの条件(露光前のベーク条件,露光条件,現像条件等)を最適化する必要がある.その為に,ベーク時間や露光条件に関して予備実験を行い,最適な条件を検証した.予備実験として,露光時の波長帯域の検証を行った.厚膜レジストを用いて垂直壁を形成する際に,通常の露光帯域であるi線を用いるとテーパが形成される.そこでh線を用いて露光を行うことにより,より垂直な壁面を得ることが可能となるために,露光装置の改良及び条件出しを行った.これにより,より垂直な壁面を得ることが可能となった. 微細構造・特殊構造への特殊メッキ技術および金型を用いた微細転写技術に関して,厚膜レジストへの微細めっきについて検討を行ってきた.厚膜レジストへのめっきの際に,メッキ時の応力によりレジストにしわやクラックが生じるといった問題点がある.そこで,応力を低減するために,めっきの条件に関する検討を行った.具体的な検討項目としてめっき液の検討(添加剤等),めっき温度の検討,厚膜レジストの加工条件の検討を行った.これらの条件を検討することにより,メッキ時のしわおよびクラックを低減することが可能となった.しかし,しわ等がまったく生じない条件に関してはまだ確立することが出来ていないために,引き続き,より厳密な条件出しを行う必要があることが分かった.
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Research Products
(2 results)