2000 Fiscal Year Annual Research Report

高性能ビーム装置を用いる表面反応過程の研究

Research Project

Project/Area Number	10308016
Research Institution	Nagoya University
Principal Investigator	菅井秀郎名古屋大学, 工学研究科, 教授 (40005517)
Co-Investigator(Kenkyū-buntansha)	石島達夫名古屋大学, 工学研究科, 助手 (00324450) 豊田浩孝名古屋大学, 工学研究科, 助教授 (70207653)
Keywords	プラズマプロセス / エッチング / CVD / 表面反応 / 中性ラジカル / イオンビーム / シリコン / XPS
Research Abstract	半導体のプラズマプロセス(エッチング,CVD)における表面反応を基礎的に解明するために、高度に制御されたビーム実験を行う。すなわち、プロセスの鍵と考えられる2,3種類の活性イオン種を選んでエネルギーやフラックス比を変えて基板に入射させ、表面から放出される種々のイオン、ラジカル、反応生成物を四重極質量分析計を用いて高感度に検出する。同時に基板表面をFT-IRやXPSなどを用いて分析し、気相診断の結果と合わせて総合的な表面反応の解明を試みるのが本研究の目的である。本年度は次の項目について重点的に研究を行った。 (1)フロン系ビームとシリコンの反応の本格的研究:前年度まで進めてきた装置の改良によって中性ラジカルの検出能力が向上し、信頼性の高い計測が可能になった。そこで本格的にCF_x^+(x=1-3)イオンビームをシリコン表面に照射し、表面から脱離するラジカルや表面状態の経時変化やエネルギー依存性を調べ、分子軌道の計算との比較をおこなった。 (2)フロン系ビームとシリコン酸化膜の反応の予備実験:CF_x^+ビームをシリコン酸化膜に照射し、エッチング生成物や表面状態のその場観察の予備的実験をおこなった。

Research Products
(6 results)

All Other

All Publications (6 results)

[Publications] 豊田浩孝,菅井秀郎他2名: "Reaction Processes on Silicon Surface Irradiated by Fluorocarbon Ion Beams"Proceedings of Dry Process Symposium. 211-216 (2000)
[Publications] 菅井秀郎他3名: "Transition of electron heating mode in a planar microwave discharge at low pressures"Applied Physics Letters. 77巻22号. 3523-3525 (2000)
[Publications] GHANASHEV Ivan,菅井秀郎: "Multiple eigenmode analysis and density jumps in planar surface-wave plasmas with slot-antenna excitation"Physics of Plasma. 7巻7号. 3051-3061 (2000)
[Publications] 菅井秀郎,豊田浩孝: "Measurements of Electron-Impact-Dissociation Cross Section for Neutral Products"AIP Conference Proceedings. 500巻. 349-358 (2000)
[Publications] 小倉輝,菅井秀郎: "Dependence of Fluorocarbon Plasma Chemistry on the Electron Energy Distribution Function"Japanese Journal of Applied Physics. 39巻5A号. 2847-2853 (2000)
[Publications] 小島徹也,菅井秀郎他4名: "Wall Heating Effect on Crystallization of Low-Temperature Deposited Sillicon Films from an Inductively-coupled Plasma"Japanese Journal of Applied Physics. 40巻1号. 322-325 (2001)

2000 Fiscal Year Annual Research Report

高性能ビーム装置を用いる表面反応過程の研究

Principal Investigator

菅井 秀郎 名古屋大学, 工学研究科, 教授 (40005517)

Research Products

[Publications] 豊田浩孝,菅井秀郎 他2名: "Reaction Processes on Silicon Surface Irradiated by Fluorocarbon Ion Beams"Proceedings of Dry Process Symposium. 211-216 (2000)

[Publications] 菅井秀郎 他3名: "Transition of electron heating mode in a planar microwave discharge at low pressures"Applied Physics Letters. 77巻22号. 3523-3525 (2000)

[Publications] GHANASHEV Ivan,菅井秀郎: "Multiple eigenmode analysis and density jumps in planar surface-wave plasmas with slot-antenna excitation"Physics of Plasma. 7巻7号. 3051-3061 (2000)

[Publications] 菅井秀郎,豊田浩孝: "Measurements of Electron-Impact-Dissociation Cross Section for Neutral Products"AIP Conference Proceedings. 500巻. 349-358 (2000)

[Publications] 小倉輝,菅井秀郎: "Dependence of Fluorocarbon Plasma Chemistry on the Electron Energy Distribution Function"Japanese Journal of Applied Physics. 39巻5A号. 2847-2853 (2000)

[Publications] 小島徹也,菅井秀郎 他4名: "Wall Heating Effect on Crystallization of Low-Temperature Deposited Sillicon Films from an Inductively-coupled Plasma"Japanese Journal of Applied Physics. 40巻1号. 322-325 (2001)

菅井秀郎名古屋大学, 工学研究科, 教授 (40005517)

[Publications] 豊田浩孝,菅井秀郎他2名: "Reaction Processes on Silicon Surface Irradiated by Fluorocarbon Ion Beams"Proceedings of Dry Process Symposium. 211-216 (2000)

[Publications] 菅井秀郎他3名: "Transition of electron heating mode in a planar microwave discharge at low pressures"Applied Physics Letters. 77巻22号. 3523-3525 (2000)

[Publications] 小島徹也,菅井秀郎他4名: "Wall Heating Effect on Crystallization of Low-Temperature Deposited Sillicon Films from an Inductively-coupled Plasma"Japanese Journal of Applied Physics. 40巻1号. 322-325 (2001)