1998 Fiscal Year Annual Research Report
Project/Area Number |
10680456
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Research Institution | Shizuoka University |
Principal Investigator |
三重野 哲 静岡大学, 理学部・物理学科, 助教授 (50173993)
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Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
櫻井 厚 静岡大学, 理学部, 助教授 (70021938)
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Keywords | フラーレン薄膜 / フッ素化フラーレン / プラズマプロセッシング / 水素化フラーレン / フッ化炭素ガス / 反応性プラズマ / フラーレン誘導体 / フラーレンポリマー |
Research Abstract |
1) 小型ガラス容器を用いた平行平板型RFプラズマ反応装置を製作し、反応性ガスを用いて安定した反応性プラズマを作ることができた。(周波数13.56MHz,パワー、0-500W,CW) 2) 金属板にC_<60>膜を真空蒸着し、その試料を反応容器電極部およびガラス壁に置き、プラズマ反応処理を行った。高熱量や高イオン衝撃でC_<60>膜が昇華したり損傷を受けるため、反応に適切なRFパワー、圧力、反応時間、基板温度を実験的に求めた。その結果、RF電極を水冷すると良い反応が行える事が分かった。 3) CF_4ガスを導入しC_<60>膜のフッ素か反応を調べた。パラメーターをサーベイした実験を行い、処理膜をレーザーイオン化質量分析器で分析すると、C_<60>F_<10>-C_<60>F_<60>が膜表面で合成されていることが分かった。特に、C_<60>F_<30>-C_<60>F_<46>辺りに強いピークを持つ。この反応は基板温度に敏感であり、強いイオン照射では、膜の劣化が起きることが分かった。 4) 水素ガスを導入し、C_<60>膜の水素化反応を調べた。同様に、反応を行い、質量分析すると、条件によりC_<60>H_2-C_<60>H_<60>の連続した信号を得ることができた。この結果は燃料用水素吸蔵材料と関連して重要な意味を持つ。しかしながら、反応率はC_<60>の10%程度であり、今後、反応率の増大方法や水素化C_<60>膜の安定性について調べる必要が有る。
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[Publications] T.Mieno: "Efficient Production of Endohedral Metallofullerenes in Repetitive Gravitation・Free Arc Discharge Using a Vertical Swing Tower" Jpn.J.Appl.Phys.Vol.37.No.6B. L761-L764 (1998)
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[Publications] T.Mieno, D.Yamane: "Effect of Arc and Gas Conditions in Synthesis of C_<60> by an Arc Discharge" J.Plasma Fusion Res.Vol.74.No.12. 1444-1451 (1998)
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[Publications] S.Aoyama, T.Mieno: "Effect of Gravity and Magnetic Field in Production of C_<60> by a DC Arc Discharge" Jpn.J.Appl.Phys.Vol.38,No.3A(印刷中). L267-L269 (1999)
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[Publications] 三重野 哲(分担): "季刊化学総説44,炭素第三の同素体フラーレンの化学,第2章-2,[60]フラーレン" 学会出版センター (日本化学会編)(印刷中), (1999)