光感応性ゲル膜の高感度・高解像度化と微細パターン形成

2000 Fiscal Year Annual Research Report

• Project/Area Number: 12650830
• Research Institution: Kinki University
• Principal Investigator: 野間 直樹 近畿大学, 理工学部, 講師 (70208388)
• Co-Investigator(Kenkyū-buntansha): 峠 登 近畿大学, 理工学部, 教授 (00081315)
• Keywords: β-ジケトン / 金属アルコキシド / 化学修飾 / 光感応性ゲル膜 / パターニング / アルキル基 / 高感度 / 長波長化

Research Abstract

申請者らは、β-ジケトンで化学修飾された金属アルコキシドのゲル膜が光感応性を示すことを見いだし、この光感応性ゲル膜に紫外線照射した後、リーチングを行うことにより、パターン化した薄膜を得るという新しい微細加工プロセスを開発している。本年度は、これまでの研究成果を基に、高感度、高解像度の光感応性ゲル膜を創出するとともに、高性能光機能デバイスの開発を目指して、1)新しい化学修飾剤を用いた光感応性ゲル膜の作製、2)微細パターンの形成について検討を行った。
1)新しい化学修飾剤を用いた光感応性ゲル膜の作製
溶解性の異なるゲル膜の形成が期待されるアルキル基置換β-ジケトンを用いて検討を行い、その中のいくつかのゲル膜が、これまで検討してきた光感応性ゲル膜よりも感度が高いことを見いだした。また、o-ヒドロキシアセトフェノンを化学修飾剤として用いて作製したゲル膜は、これまで検討してきた中で最も長波長に感度を示すことがわかった。
2)微細パターンの形成
上記で作製した光感応性ゲル膜に対して、マスクを通した紫外線照射によるパターニングを行った結果、1μm程度の微細パターンを作製できることがわかった。また、今回見いだした感度の高いゲル膜を用いると、紫外線照射時間が非常に短くてすむことがわかった。