大気圧プラズマによる高密度ラジカル反応を用いた超精密加工に関する研究

2001 Fiscal Year Annual Research Report

• Project/Area Number: 12750097
• Research Institution: Osaka University
• Principal Investigator: 山村 和也 大阪大学, 大学院・工学研究科, 助教授 (60240074)
• Keywords: プラズマCVM / 大気圧プラズマ / 数値制御加工 / ラジカル反応 / X線ミラー / 非球面ミラー / 回転電極

Research Abstract

本研究の目的は、大気圧プラズマによって発生させた高密度ラジカルを利用する新しい加工法であるプラズマCVM(Chemical vaporization Machining)を実用化して、X線ミラー等の超精密光学素子を高能率に作製するために必要な基礎的な加工特性データを取得することにある。
本年度はこれまでに開発した数値制御プラズマCVM加工装置を用いて形状加工を行い、以下の成果を得た。
(1)加工の空間分解能を向上させるために、プラズマを発生させる電極として小径(直径1mm)のパイプ状電極を適用することにより、約2mmの空間波長成分までを修正可能とした。(これまでの回転電極を用いた場合では約10mmの空間波長までが限界)
(2)硬X線を集光するための非球面(楕円面)ミラーを作製し、形状誤差3mp-v以下を実現した。作製したミラーの集光性能を、SPring-8における放射光を用いて言平価したところ、ミラーを用いた集光系としては世界最小の集光径(0. 2×0. 3μm)を達成することができた。