紫外線の局所、全身照射による単純ヘルペスウィルスの再活性化と皮疹の再発について

2000 Fiscal Year Annual Research Report

• Project/Area Number: 12770461
• Research Institution: Jikei University School of Medicine
• Principal Investigator: 竹内 常道 東京慈恵会医科大学, 医学部, 講師 (00236423)
• Keywords: 単純ヘルペスウィルス / 紫外線 / 光免疫

Research Abstract

1)ヘアレスマウスをエーテルで麻酔し,3x10^5PFUの単純ヘルペスウイルス1型を背部の皮内に初感染させた.
2)以下の4群を用意し,初感染より4週間後にペントバルビタールによる麻酔下で紅斑量のUVB,1600J/m^2を照射した.
(1)ヘルペスウィルスの初感染を受けていない群.
(2)感染を受けたが紫外線照射を受けない群.
(3)背部の初感染部位のみをアルミ箔で覆い,背部の広い範囲に照射を受けた群.以下,全身照射群と呼ぶ.
(4)初感染部位以外をアルミ箔で覆い,初感染部位のみに照射を受けた群.以下,局所照射群と呼ぶ.
3)照射後は毎日皮疹の再発を観察した.局所照射群では10例中2例で照射2日後に小水疱が認めら,他の8例では認められなかった.一方,全身照射群では10例中8例に照射3〜5日後に小水疱が認められた.
4)皮疹の再発がみられなかったマウスの神経節には,潜伏ウイルスが発現する転写産物であるlatency-associated transcriptがnorthern blot法にて全例認められた.