2003 Fiscal Year Annual Research Report

光放射圧制御ナノCMP加工装置の開発

Research Project

Project/Area Number	13355006
Research Institution	OSAKA UNIVERSITY
Principal Investigator	三好隆志大阪大学, 大学院・工学研究科, 教授 (00002048)
Co-Investigator(Kenkyū-buntansha)	木村景一大阪大学, 大学院・工学研究科, 客員助教授高谷裕浩大阪大学, 大学院・工学研究科, 助教授 (70243178)
Keywords	光放射圧 / ナノテクノロジー / 研磨加工 / CMP / 平坦化 / レーザトラップ / シリコンウエハ / 半導体
Research Abstract	光放射圧による微粒子集積制御技術に基づいて、ナノメートルオーダの微小な凹凸形状を有するCu配線表面層の凸部のみを除去し平滑化するための基礎実験および分子動力学シミュレーションを行い下記のような知見を得た。 (1)Cu表面層にシリカ(直径140nm)スラリー微粒子を光放射圧で集積し、研磨実験を行った結果、高さ1400nmの集積痕は14分で完全に除去されることが分かった。 (2)集束イオンビーム(FIB)加工機で幅20μm、深さ80nmの微細トレンチをCu表面に形成し、微粒子直径35nmのスラリー(PLANERLITE-7101)で19分研磨を行ったが、深さ約30nmの溝が残った。 (3)上記と同様な微細トレンチをCu表面に形成し、その凹部を微粒子集積痕で埋め、研磨実験を行った結果、Cu表面から高さ950nmあった集積痕は約9分で除去されCu表面と同じ高さになった。さらに14分研磨後には平坦化が進みトレンチ底部と同一になり5nmRrmsの平滑面が得られた。 (4)集束レーザ光の熱的損傷を調べるために、集積痕の研磨後、オージエ分析とラマンスペクトルからCu表面層の化学分析を行った結果、熱的変質層のない高品質な平坦面が得られることが確認された。 (5)分子動力学に基づいて光放射圧CMP加工現象をシミュレーション解析した結果、数ナノメートルの微細な凹凸を0.1nNの微小な光放射圧で微粒子を十数回走査することによって除去できることが分かった。 (6)同様な分子動力学シミュレーションによってCMP加工メカニズムを解析した結果、加工工具である微粒子に被加工物の表面層原子が付着し、その原子が凹部を埋めてゆくため平坦化が進行することが示唆された。

Research Products

(5 results)

All Other

All Publications (5 results)

[Publications] 木村景一, 三好隆志, 高谷裕浩, 高橋哲: "光放射圧制御微粒子集積現象に基づくCMP加工に関する基礎的研究"精密工学会誌. 69.1. 89-94 (2003)
[Publications] K.KIMURA, T.MIYOSHI Y.TAKAYA, S.TAKAHASHI: "New chemical Mechanical Polishing based on Particle Aggregation by Optical Radiation Pressure"The Proceedings of International Workshop on Extream Optics and Sensors, Universal Academy Press. Tokyo. 269-276 (2003)
[Publications] 高谷裕浩, 河野秀逸, 三好隆志, 木村景一: "分子動力学法による光放射圧マイクロ加工現象の解析"砥粒加工学会誌. 47・12. 677-683 (2003)
[Publications] R.TSUJIO, T.MIYOSHI, Y.TAKAYA, S.TAKAHASHI, K.KIMURA: "Fundamental Properties of Chemical Mechanical Polishing for Copper Layer Assisted by Optical Radiation Pressure"The 2^<nd> International Conference on Leading Edge Manufacturing in 21^<st> century. Nigata. 11-14 (2003)
[Publications] 辻尾良輔, 木村景一, 三好隆志, 高谷裕浩, 高橋哲: "光放射圧を利用したCu-CMP加工に関する研究(第1報) -シリカ粒子の集積特性-"2003年度精密工学会春季大会学術講演会講演論文. 東京農工大. 255 (2003)

2003 Fiscal Year Annual Research Report

光放射圧制御ナノCMP加工装置の開発

Principal Investigator

三好 隆志 大阪大学, 大学院・工学研究科, 教授 (00002048)

Research Products

[Publications] 木村 景一, 三好 隆志, 高谷 裕浩, 高橋 哲: "光放射圧制御微粒子集積現象に基づくCMP加工に関する基礎的研究"精密工学会誌. 69.1. 89-94 (2003)

[Publications] K.KIMURA, T.MIYOSHI Y.TAKAYA, S.TAKAHASHI: "New chemical Mechanical Polishing based on Particle Aggregation by Optical Radiation Pressure"The Proceedings of International Workshop on Extream Optics and Sensors, Universal Academy Press. Tokyo. 269-276 (2003)

[Publications] 高谷 裕浩, 河野 秀逸, 三好 隆志, 木村 景一: "分子動力学法による光放射圧マイクロ加工現象の解析"砥粒加工学会誌. 47・12. 677-683 (2003)

[Publications] R.TSUJIO, T.MIYOSHI, Y.TAKAYA, S.TAKAHASHI, K.KIMURA: "Fundamental Properties of Chemical Mechanical Polishing for Copper Layer Assisted by Optical Radiation Pressure"The 2^<nd> International Conference on Leading Edge Manufacturing in 21^<st> century. Nigata. 11-14 (2003)

[Publications] 辻尾良輔, 木村景一, 三好隆志, 高谷裕浩, 高橋 哲: "光放射圧を利用したCu-CMP加工に関する研究(第1報) -シリカ粒子の集積特性-"2003年度精密工学会春季大会学術講演会講演論文. 東京農工大. 255 (2003)

三好隆志大阪大学, 大学院・工学研究科, 教授 (00002048)

[Publications] 木村景一, 三好隆志, 高谷裕浩, 高橋哲: "光放射圧制御微粒子集積現象に基づくCMP加工に関する基礎的研究"精密工学会誌. 69.1. 89-94 (2003)

[Publications] 高谷裕浩, 河野秀逸, 三好隆志, 木村景一: "分子動力学法による光放射圧マイクロ加工現象の解析"砥粒加工学会誌. 47・12. 677-683 (2003)

[Publications] 辻尾良輔, 木村景一, 三好隆志, 高谷裕浩, 高橋哲: "光放射圧を利用したCu-CMP加工に関する研究(第1報) -シリカ粒子の集積特性-"2003年度精密工学会春季大会学術講演会講演論文. 東京農工大. 255 (2003)