シリコン表面のウルトラクリーン洗浄・昇温過程における反応機構光制御の研究

2003 Fiscal Year Annual Research Report

• Project/Area Number: 13555007
• Research Institution: Osaka University
• Principal Investigator: 森田 瑞穂 大阪大学, 大学院・工学研究科, 教授 (50157905)
• Co-Investigator(Kenkyū-buntansha): 有馬 健太 大阪大学, 大学院・工学研究科, 助手 (10324807)
• Keywords: シリコン表面反応制御 / ウルトラクリーン洗浄 / 光照射効果

Research Abstract

半導体生産の性能および信頼性を向上させるために、酸素フリー水あるいは水分フリー酸素とシリコン表面との反応への光照射効果を明らかにし、さらにこれらの条件下での水あるいは酸素の機能を新たに見いだして、科学的半導体生産システムとして具現化する基礎を築く目的に対して、シリコンウェハのウェットエッチングヘの紫外光照射効果を明らかにしている。シリコンウェハのウェットエッチングにおいては、シリコンのバンドギャップエネルギーより大きいエネルギーの光を含む紫外光の照射によりエッチング速度が遅くなり、エッチング表面が平坦になることを見いだしている。また、シリコンウェハにスズ膜を接触させて、シリコンのバンドギャップエネルギーより大きいエネルギーの半導体レーザー光を照射することにより、シリコンとスズとの接着反応が起こることを明らかにしている。さらに、貼り合わせにより作製したシリコン/シリコン酸化膜/シリコン基板に半導体レーザー光を照射して走査することにより、シリコンウェハの面方位に依存せずに貼り合わせ基板のカッティング加工ができることを確認している。そして、パーティクルが少ないカッティング加工条件を見いだしている。シリコンウェハの熱酸化により表面に極めて薄いシリコン酸化膜が形成されたウェハを大気に晒した後、ウェハのウェット洗浄を行い、大気中からシリコン酸化膜表面に付着した有機物の除去効果が高い洗浄を明らかにしている。

Research Products

• [Publications] Yasushi Azuma, Ruiqin Tan, Toshiyuki Fujimoto, Isao, Kojima, Akihito Shinozaki, Mizuho Morita: "Uncertainties Caused by Surface Adsorbates in Estimates of the Thickness of SiO_2 Ultrathin Films"Characterization and Metrology for ULSI Technology : 2003 2003 International Conference. 337-342 (2003)
• [Publications] Akihito SHINOZAKI, Kenta ARIMA, Mizuho MORITA, Isao KOJIMA, Yasushi AZUMA: "FTIR-ATR Evaluation of Organic Contaminant Cleaning Methods for SiO2 Surfaces"ANALYTICAL SCIENCES. 19. 1557-1559 (2003)
• [Publications] Naoto Yoshii, Satoru Morita, Akihito Shinozaki, Minoru Aoki, Mizuho Morita: "Energy Barrier Heights of Ultra-thin Silicon Dioxide Films with Different Metal Gates"Extended Abstracts of International Workshop on Gate Insulator 2003. 96-97 (2003)
• [Publications] Naoto Yoshii, Satoru Morita, Akihito Shinozaki, Minoru Aoki, Mizuho Morita: "Determination of Energy Barrier Heights in MOS Diodes with Different Metal Gates"Extended Abstracts of the 9th Workshop on FORMATION CHARACTERIZATION AND RELIABILITY OF ULTRATHIN SILICON OXIDES. 313-316 (2004)
• [Publications] Akihito Shinozaki, Yuuki Morita, Satoru Morita, Mizuho Morita: "Oxide thickness Dependence of Photo Currents of MOS Tunneling Diodes"Extended Abstracts of the 9th Workshop on FORMATION CHARACTERIZATION AND RELIABILITY OF ULTRATHIN SILICON OXIDE. 317-320 (2004)
• [Publications] 森田瑞穂: "赤外線加熱工学ハンドブック 極薄シリコン酸化膜形成への応用"アグネ技術センター. 118-126 (2003)