2002 Fiscal Year Annual Research Report
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13650350
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| Research Institution | MIYAZAKI UNIVERSITY |
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Principal Investigator |
横谷 篤至 宮崎大学, 工学部, 助教授 (00183989)
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| Keywords | BaTiO_3結晶 / BaTiO_3薄膜 / 光コンピューター / PLD法 / 紫外線照射 |
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| Research Abstract |
光コンピューター構築などに応用できる光演算機能を有するフォトリフラクティブ結晶BaTiO_3薄膜を作製する目的で、PLD法を用いて成膜実験を行った。前年度の実験で、基板温度を665℃以上に保つと結晶性の薄膜が出来ることがわかっている。今年度は、基板に紫外線をあてることにより基板表面を活性化、結晶化を促進させることを試みた。
PLD法でターゲットを照射しているKrFエキシマレーザーの一部をビームスプリッターで分岐し、レンズでわずかに集光することにより基板表面に約25〜100mJ/cm2'のフルエンスで照射した。得られた薄膜をXRD、SEMで評価した。
基板を25mJ/cm^2で照射した場合、約600℃以上で結晶化が始まるようになった。紫外線で活性化する分、余分な熱エネルギーを与えなくても結晶性薄膜が得られることがわかった。さらに100mJ/cm^2で照射した場合、約250℃まで結晶化温度を下げることができた。SEM観察では、わずかに周期性の見られるランダムな構造が観察され、得られた多結晶薄膜の各結晶粒が、完全ではないにしろ、基板の影響をうけて配向する影響があることがわかった。
以上の結果より、本研究で、結晶性BaTiO_3薄膜を従来技術よりもかなりの低温で作製できることを示すことが出来た。
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[Publications] 横谷 篤至: "フェムト秒レーザーを用いた極薄半導体基板の加工技術の開発"電気学会論文誌C. 123-C(2). 216-221 (2003)
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[Publications] 沢田博司: "フェムト秒レーザーアブレーションにおけるレーザー発振条件の加工特性に及ぼす影響"精密工学会誌. 69(1). 84-88 (2003)
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[Publications] 伊藤 智海: "PLD法によるフッ化ランタン薄膜の作製"宮崎大学工学部紀要. 31. 87-92 (2002)
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[Publications] K.Kawahara: "Morphological characterization of various kinds of materials in femtosecondlaser micro-machining"SPIE Proceeding. 4426. 86-89 (2002)
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[Publications] A.Kameyama: "Generation and erasure of second-order optical nonlinearities in thermal poled silica glasses by control of point defects"Journal of Optical Society of America. B19(10). (2002)
